公开(公告)号：CN1396494A

公开(公告)日：2003-02-12

申请号：CN02121807.2

申请日：2002-04-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤和也 ,  井上壮一 ,  田中聪

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G01J1/26 ,  G03F7/70133

Abstract: 一种曝光装置的照度不匀度的测定方法，向光掩膜照射从照明光学系统射出的照明光，对于通过投影光学系统而在感光衬底上的有限区域内投影并曝光通过该光掩膜的光的曝光装置，进行所述投影光学系统引起的、在所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度的测定，其特征在于，包括：按在所述感光衬底上的有限区域内的多个成像点的每一个，计算从所述光掩膜的一点射出并到达成像点的光线的、在所述投影光学系统的透射率的平均值，根据按所述成像点求出的透射率的平均值，算出所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度。

公开(公告)号：CN100397404C

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN02121807.2

申请日：2002-04-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤和也 ,  井上壮一 ,  田中聪

IPC: G06F19/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G01J1/00

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G01J1/26 ,  G03F7/70133

Abstract: 一种曝光装置的照度不匀度的测定方法，向光掩膜照射从照明光学系统射出的照明光，对于通过投影光学系统而在感光衬底上的有限区域内投影并曝光通过该光掩膜的光的曝光装置，进行所述投影光学系统引起的、在所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度的测定，其特征在于，包括：按在所述感光衬底上的有限区域内的多个成像点的每一个，计算从所述光掩膜的一点射出并到达成像点的光线的、在所述投影光学系统的透射率的平均值，根据按所述成像点求出的透射率的平均值，算出所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度。

公开(公告)号：CN1624590A

公开(公告)日：2005-06-08

申请号：CN200410101124.5

申请日：2002-04-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤和也 ,  井上壮一 ,  田中聪

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G01J1/26 ,  G03F7/70133

Abstract: 一种曝光装置的照度不匀度的测定方法，向光掩膜照射从照明光学系统射出的照明光，对于通过投影光学系统而在感光衬底上的有限区域内投影并曝光通过该光掩膜的光的曝光装置，进行所述投影光学系统引起的、在所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度的测定，其特征在于，包括：按在所述感光衬底上的有限区域内的多个成像点的每一个，计算从所述光掩膜的一点射出并到达成像点的光线的、在所述投影光学系统的透射率的平均值，根据按所述成像点求出的透射率的平均值，算出所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度。

公开(公告)号：CN118885329A

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202311817187.X

申请日：2023-12-27

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 佐藤和也

IPC: G06F11/14

Abstract: 本发明提供寄存器误写入防止电路、微控制器以及寄存器误写入防止方法，其能够防止向根据用户的设定而选择的任意的寄存器的误写入。寄存器误写入防止电路(2)具备：选择部(22)，选择多个寄存器(40)中的防止误写入的任意的第一寄存器(40X)；存储器(26)，存储所述第一寄存器(40X)的第一地址；地址比较部(25)，在被输入向所述多个寄存器(40)中的第二地址的寄存器的写入信号时，将所述第一地址与所述第二地址进行比较，在所述第一地址与所述第二地址一致时输出一致信号；以及写入控制部(30)，在从所述地址比较部(25)输入了1次所述一致信号的情况下，不将所述写入信号输出至所述第一寄存器。

公开(公告)号：CN100422856C

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200410101124.5

申请日：2002-04-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤和也 ,  井上壮一 ,  田中聪

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G01J1/26 ,  G03F7/70133

Abstract: 一种曝光装置的照度不匀度的测定方法，向光掩膜照射从照明光学系统射出的照明光，对于通过投影光学系统而在感光衬底上的有限区域内投影并曝光通过该光掩膜的光的曝光装置，进行所述投影光学系统引起的、在所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度的测定，其特征在于，包括：按在所述感光衬底上的有限区域内的多个成像点的每一个，计算从所述光掩膜的一点射出并到达成像点的光线的、在所述投影光学系统的透射率的平均值，根据按所述成像点求出的透射率的平均值，算出所述感光衬底上的有限区域内的照度不匀度。