公开(公告)号：CN101683587A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200810179966.0

申请日：2008-09-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 秋元佳子 ,  五十川昌邦

IPC: B01D53/28 ,  H05B33/04 ,  H01L51/50 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种具有吸湿性并且即使在吸湿后也不产生裂纹而可以维持透明性的透明干燥剂。该透明干燥剂的特征在于，其包含第2族、第3族或第4族金属的醇盐和透明有机聚合物的混合物，所述透明有机聚合物与所述金属醇盐不反应而相容。

公开(公告)号：CN113400804B

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202110034090.6

申请日：2021-01-12

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝泰格有限公司

Inventor： 石原治彦 ,  五十川昌邦 ,  添田胜之 ,  木下静雄

IPC: B41J2/045 ,  B41J2/14

Abstract: 本发明提供一种喷墨头单元，从各喷嘴喷出规定量的墨水液滴。喷墨头单元具备：共用墨水室，能够收纳墨水；第1喷嘴单元，具有第1喷嘴、将上述第1喷嘴与上述共用墨水室连通的第1流路、及使墨水从上述第1喷嘴喷出的第1致动器；以及第2喷嘴单元，与第1喷嘴单元在第1方向上相邻，具有第2喷嘴、将上述第2喷嘴与上述共用墨水室连通的第2流路、及使墨水从上述第2喷嘴喷出的第2致动器，上述第1流路经由第1开口部与上述共用墨水室连通，上述第2流路经由第2开口部与上述共用墨水室连通，沿着从上述共用墨水室朝向上述第1流路的第2方向观察，与上述第1方向交叉的第3方向上的上述第1开口部的中心位置与上述第2开口部的中心位置不同。

公开(公告)号：CN1721082A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510084066.4

申请日：2005-07-12

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 樱井直明 ,  佐藤强 ,  五十川昌邦

IPC: B05C11/00 ,  B05D3/00

CPC classification number: H05K3/125 ,  B05C9/08 ,  B05C13/02 ,  B41M5/0011 ,  B41M5/0047 ,  B41M5/007 ,  B41M7/0027 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/0783

Abstract: 本发明是有关于一种可使基片上所涂敷的涂敷液的干燥在基片的被涂敷的区域内均匀进行，并可防止涂敷物的不均，且使干燥后的涂敷物的形状有效地均匀形成的涂敷装置及涂敷方法。该涂敷方法在将含有溶质和溶剂的涂敷液在基片上的设定区域上进行涂敷并使溶剂挥发，而在前述基片上形成溶质的固化物的过程中，于结束向前述基片上的设定区域的涂敷之前，使前述基片上进行了涂敷的区域附近的环境，保持为一种对前述溶剂的挥发进行抑制的环境。

公开(公告)号：CN115732234A

公开(公告)日：2023-03-03

申请号：CN202210220037.X

申请日：2022-03-08

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 大城健一 ,  内田健哉 ,  松本一纪 ,  五十川昌邦

IPC: H01G9/02 ,  H01G9/145 ,  H01G13/00

Abstract: 本发明涉及电解电容器、电解电容器的制造装置及方法。本发明要解决的课题在于提供与电极的一方成为一体地形成成为间隔件的纤维膜并且使纤维膜中的导电性高分子的均匀性提高的电解电容器的制造方法、电解电容器以及电解电容器的制造装置。根据实施方式的电解电容器的制造方法，通过朝向成为电极的基材喷出原料液，由此在基材的表面上形成成为间隔件的纤维膜。在纤维膜的形成中，与宽度方向上的基材的中央部相比，在宽度方向上的基材的端部将纤维形成得较粗。

公开(公告)号：CN113400804A

公开(公告)日：2021-09-17

申请号：CN202110034090.6

申请日：2021-01-12

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝泰格有限公司

Inventor： 石原治彦 ,  五十川昌邦 ,  添田胜之 ,  木下静雄

IPC: B41J2/045 ,  B41J2/14

Abstract: 本发明提供一种喷墨头单元，从各喷嘴喷出规定量的墨水液滴。喷墨头单元具备：共用墨水室，能够收纳墨水；第1喷嘴单元，具有第1喷嘴、将上述第1喷嘴与上述共用墨水室连通的第1流路、及使墨水从上述第1喷嘴喷出的第1致动器；以及第2喷嘴单元，与第1喷嘴单元在第1方向上相邻，具有第2喷嘴、将上述第2喷嘴与上述共用墨水室连通的第2流路、及使墨水从上述第2喷嘴喷出的第2致动器，上述第1流路经由第1开口部与上述共用墨水室连通，上述第2流路经由第2开口部与上述共用墨水室连通，沿着从上述共用墨水室朝向上述第1流路的第2方向观察，与上述第1方向交叉的第3方向上的上述第1开口部的中心位置与上述第2开口部的中心位置不同。

公开(公告)号：CN100484644C

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200510084066.4

申请日：2005-07-12

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 樱井直明 ,  佐藤强 ,  五十川昌邦

IPC: B05C11/00 ,  B05D3/00

CPC classification number: H05K3/125 ,  B05C9/08 ,  B05C13/02 ,  B41M5/0011 ,  B41M5/0047 ,  B41M5/007 ,  B41M7/0027 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/0783

Abstract: 本发明是有关于一种可使基片上所涂敷的涂敷液的干燥在基片的被涂敷的区域内均匀进行，并可防止涂敷物的不均，且使干燥后的涂敷物的形状有效地均匀形成的涂敷装置及涂敷方法。该涂敷方法在将含有溶质和溶剂的涂敷液在基片上的设定区域上进行涂敷并使溶剂挥发，而在前述基片上形成溶质的固化物的过程中，于结束向前述基片上的设定区域的涂敷之前，使前述基片上进行了涂敷的区域附近的环境，保持为一种对前述溶剂的挥发进行抑制的环境。