Patent search ap:("株式会社东京精密") AND inv:"久保田和浩" Page 1

1.

发明公开
表面粗糙度和/或轮廓形状测量装置无效

公开(公告)号：CN1851400A

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：CN200610077752.3

申请日：2006-04-21

Applicant: 株式会社东京精密

Inventor： 谷内信幸 , 久保田和浩

IPC: G01B21/30 , G01B21/20

CPC classification number: G01B5/20 , G01B5/28

Abstract: 公开了一种表面粗糙度和/或轮廓形状测量装置，该装置用于通过在使被支撑于悬臂上的探针与工件测量表面保持接触的同时移动该探针、并且检测探针的位移量来测量工件测量表面的表面形状。具有堤坝部分和底部的阶梯形工件底部的表面粗糙度和轮廓形状可以容易地进行测量。该表面粗糙度和/或轮廓形状测量装置(1)包括移动单元(8)，该移动单元用来在与探针(9)长度方向(Z)和悬臂(7)长度方向(Y)都垂直的方向(X)上使工件和探针(9)相对于彼此移动。

Patent Agency Ranking