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公开(公告)号:CN102741436B
公开(公告)日:2015-04-01
申请号:CN200980162397.1
申请日:2009-12-25
Applicant: 株式会社三德
Abstract: 本发明提供了一种具有高度均衡的耐腐蚀性和冷加工性并具有一定程度的抗拉强度的非常轻质的镁锂合金,以及由该合金制成的轧制材料和成型制品。本发明的合金包含不低于10.5质量%且不高于16.0质量%的Li,不低于0.50质量%且不高于1.50质量%的Al,以及余量的Mg,并且具有不小于5μm且不大于40μm的平均晶粒尺寸,以及不低于150MPa的抗拉强度或不低于50的维氏硬度(HV)。
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公开(公告)号:CN102762768A
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN201080050989.7
申请日:2010-09-10
Applicant: 株式会社三德
Abstract: 本发明提供了一种形成涂层的方法,该涂层具有低表面电阻率和优异的表面涂覆性能和裸露耐腐蚀性,还提供了通过所述方法得到的镁锂合金。对镁锂合金进行表面处理的方法包括使用包含以铝计0.021~0.47g/l金属离子和以锌计0.0004~0.029g/l金属离子的无机酸的降电阻溶液。对镁锂合金进行表面处理的方法进一步包括,在表面调整之后,将所述合金浸入3.33~40g/l的酸性氟化铵水溶液中进行化学转化涂覆。通过这种处理方法获得了一种镁锂合金。
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公开(公告)号:CN102753714B
公开(公告)日:2015-02-18
申请号:CN201080051000.4
申请日:2010-09-10
Applicant: 株式会社三德
Abstract: 本发明提供了一种具有高度均衡的耐腐蚀性和冷加工性并具有一定程度的抗拉强度和低表面电阻率的非常轻质的镁锂合金,还提供了由该合金制成的轧制材料和成型制品,以及制备该合金的方法。该镁锂合金包含不低于10.5质量%且不高于16.0质量%的Li,不低于0.50质量%且不高于1.50质量%的Al,以及余量的Mg,并且具有不小于5μm且不大于40μm的平均晶粒尺寸,不低于150MPa的抗拉强度,以及不高于1Ω的表面电阻率,该表面电阻率是使用安培计,通过将针与针间距为10mm且针尖直径为2mm(一个针的接触表面积为3.14mm2)的圆柱形二点探针在合金表面以240g的荷载按压测得的。
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公开(公告)号:CN102762768B
公开(公告)日:2014-05-14
申请号:CN201080050989.7
申请日:2010-09-10
Applicant: 株式会社三德
Abstract: 本发明提供了一种形成涂层的方法,该涂层具有低表面电阻率和优异的表面涂覆性能和裸露耐腐蚀性,还提供了通过所述方法得到的镁锂合金。对镁锂合金进行表面处理的方法包括使用包含以铝计0.021~0.47g/l金属离子和以锌计0.0004~0.029g/l金属离子的无机酸的降电阻溶液。对镁锂合金进行表面处理的方法进一步包括,在表面调整之后,将所述合金浸入3.33~40g/l的酸性氟化铵水溶液中进行化学转化涂覆。通过这种处理方法获得了一种镁锂合金。
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公开(公告)号:CN102753714A
公开(公告)日:2012-10-24
申请号:CN201080051000.4
申请日:2010-09-10
Applicant: 株式会社三德
Abstract: 本发明提供了一种具有高度均衡的耐腐蚀性和冷加工性并具有一定程度的抗拉强度和低表面电阻率的非常轻质的镁锂合金,还提供了由该合金制成的轧制材料和成型制品,以及制备该合金的方法。该镁锂合金包含不低于10.5质量%且不高于16.0质量%的Li,不低于0.50质量%且不高于1.50质量%的Al,以及余量的Mg,并且具有不小于5μm且不大于40μm的平均晶粒尺寸,不低于150MPa的抗拉强度,以及不高于1Ω的表面电阻率,该表面电阻率是使用安培计,通过将针与针间距为10mm且针尖直径为2mm(一个针的接触表面积为3.14mm2)的圆柱形二点探针在合金表面以240g的荷载按压测得的。
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公开(公告)号:CN102741436A
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN200980162397.1
申请日:2009-12-25
Applicant: 株式会社三德
Abstract: 本发明提供了一种具有高度均衡的耐腐蚀性和冷加工性并具有一定程度的抗拉强度的非常轻质的镁锂合金,以及由该合金制成的轧制材料和成型制品。本发明的合金包含不低于10.5质量%且不高于16.0质量%的Li,不低于0.50质量%且不高于1.50质量%的Al,以及余量的Mg,并且具有不小于5μm且不大于40μm的平均晶粒尺寸,以及不低于150MPa的抗拉强度或不低于50的维氏硬度(HV)。
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