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公开(公告)号：CN114555357A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080072334.3
申请日：2020-10-15
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: B32B15/00 , B32B15/08 , B32B27/00 , H05K1/09 , C08F290/06 , C08F257/02
Abstract: 本发明一个方面涉及覆金属箔层压板，其具备绝缘层、及层压于所述绝缘层的金属箔，其中，所述绝缘层包含树脂组合物的固化物，所述树脂组合物含有在分子内具有下述式(1)所示的结构单元的聚合物，所述金属箔是如下的金属箔：与所述绝缘层接触一侧的表面中的镍元素量、以及在以SiO2换算计为3nm/分钟的速度的条件下对所述表面进行了1分钟溅射时的该表面中的镍元素量相对于各自的表面中的全部元素量为4.5原子％以下。式(1)中，Z表示亚芳基，R1～R3各自独立地表示氢原子或烷基，R4～R6各自独立地表示氢原子或碳数1～6的烷基。
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公开(公告)号：CN112805150A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201980064338.4
申请日：2019-09-27
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 本发明一个方面涉及覆金属箔层压板，其具备绝缘层、及与所述绝缘层的至少一侧表面接触的金属箔，其中，所述绝缘层包含树脂组合物的固化物，所述树脂组合物含有聚苯醚化合物，所述金属箔是如下的金属箔：在与所述绝缘层接触一侧的表面中，由X射线光电子能谱测得的第一镍元素量相对于由X射线光电子能谱测得的全部元素量为4.5原子％以下；并且，在以SiO2换算计为3nm/分钟的速度的条件下，对与所述绝缘层接触一侧的表面进行了1分钟溅射时，在该表面中，由X射线光电子能谱测得的第二镍元素量相对于由X射线光电子能谱测得的全部元素量为4.5原子％以下。
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公开(公告)号：CN112789167A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201980064349.2
申请日：2019-09-27
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 本发明一个方面涉及覆铜箔层压板，其是具备绝缘层、及与所述绝缘层的至少一侧表面接触而存在的铜箔的覆铜箔层压板，所述绝缘层包含树脂组合物的固化物，所述树脂组合物含有末端被具有碳‑碳不饱和双键的取代基改性的改性聚苯醚化合物，在将所述覆铜箔层压板用氯化铜溶液进行蚀刻处理而所述绝缘层露出的露出面中，由X射线光电子能谱测得的铬元素量相对于由X射线光电子能谱测得的全部元素量为7.5原子％以下，所述露出面的表面粗糙度以十点平均粗糙度计为2.0μm以下。
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公开(公告)号：CN112805150B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN201980064338.4
申请日：2019-09-27
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 本发明一个方面涉及覆金属箔层压板，其具备绝缘层、及与所述绝缘层的至少一侧表面接触的金属箔，其中，所述绝缘层包含树脂组合物的固化物，所述树脂组合物含有聚苯醚化合物，所述金属箔是如下的金属箔：在与所述绝缘层接触一侧的表面中，由X射线光电子能谱测得的第一镍元素量相对于由X射线光电子能谱测得的全部元素量为4.5原子％以下；并且，在以SiO2换算计为3nm/分钟的速度的条件下，对与所述绝缘层接触一侧的表面进行了1分钟溅射时，在该表面中，由X射线光电子能谱测得的第二镍元素量相对于由X射线光电子能谱测得的全部元素量为4.5原子％以下。
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