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公开(公告)号：CN103703319B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201280036585.1
申请日：2012-07-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/6408 , H05B6/6402 , H05B6/6405 , H05B6/707
Abstract: 本发明包括：加热室（1）；磁控管（2）；设置在为与所述加热室（1）相对的表面的壁表面上的波导管（3）；设置所述在加热室（1）的壁表面上的馈电口（4）；微波发射盖（5），该微波发射盖关闭所述馈电口（4）以便防止蒸汽或污染物从馈电口（4）进入；以及防污盖（6），该防污盖覆盖所述微波发射盖（5）的上端面。当蒸汽或调料被散布并且粘附至所述加热室的壁表面并且流下时，伞状构件也能防止蒸汽或调料粘附至微波发射盖的表面或背面，由此能防止微波发射盖被熔融/变形。
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公开(公告)号：CN103703319A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201280036585.1
申请日：2012-07-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/6408 , H05B6/6402 , H05B6/6405 , H05B6/707
Abstract: 本发明包括：加热室（1）；磁控管（2）；设置在为与所述加热室（1）相对的表面的壁表面上的波导管（3）；设置所述在加热室（1）的壁表面上的馈电口（4）；微波发射盖（5），该微波发射盖关闭所述馈电口（4）以便防止蒸汽或污染物从馈电口（4）进入；以及防污盖（6），该防污盖覆盖所述微波发射盖（5）的上端面。当蒸汽或调料被散布并且粘附至所述加热室的壁表面并且流下时，伞状构件也能防止蒸汽或调料粘附至微波发射盖的表面或背面，由此能防止微波发射盖被熔融/变形。
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公开(公告)号：CN102770712A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201180010984.6
申请日：2011-02-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/763
Abstract: 公开了一种高频烹饪装置，其中，可以防止杂质或蒸汽从扼流部进入门的内部，而不会使装置的组装可加工性恶化。在扼流盖（28）的与扼流部（27）对置的顶端上形成有波纹状物（32），并且所述波纹状物（32）密封所述扼流部（27）和所述扼流盖（28）之间的空间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102763488A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201180009544.9
申请日：2011-02-16
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/642
Abstract: 本发明提供确保噪声滤波器的冷却性能，同时布线作业简单的高频加热装置。通过将设置于空气引导部件（16）的分隔壁面上的多个孔（17）设置于被噪声滤波器（15）的部件面和空气引导部件（16）划分出的面上，实现噪声滤波器（15）的冷却性能的提高和设置的简便性。
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公开(公告)号：CN104246374B
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201380014796.X
申请日：2013-03-15
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: F24C1/00
CPC classification number: A47J27/04 , A47J2027/043 , F24C15/327 , H05B6/6479
Abstract: 在加热烹调器中，具有：壳体，其在内侧形成有前面被开口的加热室；烹调盘支撑部，其被设置于加热室的彼此面对的内壁面上，在上下方向的多层的支撑位置处支撑烹调盘的两端；蒸汽产生部，其产生蒸汽；以及蒸汽喷出部，其具有设置于加热室的内壁面上的一个排出口、和将蒸汽产生部产生的蒸汽引导至排出口的蒸汽通道，经由排出口向加热室内喷出蒸汽。一个排出口被设置于与如下空间相面对的一个内壁面上，所述空间是被支撑在烹调盘支撑部的最上层的支撑位置处的烹调盘与加热室的顶面之间的空间。由此，能够在加热室内以短时间得到烹调所要求的蒸汽浓度的烹调区域。
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公开(公告)号：CN102782413A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180010511.6
申请日：2011-02-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/6494
Abstract: 提供一种加热烹调器，当判断为被加热物是冷冻时，可使托盘的温度迅速地上升。在收纳被加热物（M）的加热室（11）中设置有：托盘（31），其具有通过照射来自作为加热源的辐射热供给部（15）的辐射热和来自高频供给部（13）的高频而发热的高频吸收体（33）；以及天线（37），其使由高频供给部（13）振荡出的高频在加热室（11）传播。控制单元（25）通过辐射热和基于高频的介质加热，向加热室（11）供给辐射热和高频，当判断为被加热物是冷冻时，天线（37）以使托盘（31）的温度迅速上升的方式进行动作。由此，在短时间内从加热开始到结束，不必进行中途的操作而通过一次加热就能够恰到好处地烧烤被加热物的上表面和底面。
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公开(公告)号：CN104285098A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201380025305.1
申请日：2013-03-12
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: F22B1/284 , A47J27/04 , A47J2027/043 , F22B1/28 , F22B1/285 , F22B37/50 , F22B37/54 , F24C15/003 , F24C15/327
Abstract: 蒸汽发生装置具备：贮水室(19)，其储存水；蒸汽发生加热器(40)，其加热贮水室(19)内的水；供水泵(28)，其通过设置于贮水室(19)的供水口(36)和供水路(27)来输送供水罐(29)的水；以及排水路(30)，其用于进行排水，由U字状的第一排水路(25)和倒U字状的第二排水路(35)形成，该第一排水路(25)连通设置于贮水室(19)的排水口(37)并且向下方凸出，该第二排水路(35)向上方凸出，其中，利用虹吸原理将贮水室(19)中储存的水通过排水口(37)和排水路(30)排出，第一排水路(25)由非金属构成。
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公开(公告)号：CN104246374A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380014796.X
申请日：2013-03-15
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: F24C1/00
CPC classification number: A47J27/04 , A47J2027/043 , F24C15/327 , H05B6/6479
Abstract: 在加热烹调器中，具有：壳体，其在内侧形成有前面被开口的加热室；烹调盘支撑部，其被设置于加热室的彼此面对的内壁面上，在上下方向的多层的支撑位置处支撑烹调盘的两端；蒸汽产生部，其产生蒸汽；以及蒸汽喷出部，其具有设置于加热室的内壁面上的一个排出口、和将蒸汽产生部产生的蒸汽引导至排出口的蒸汽通道，经由排出口向加热室内喷出蒸汽。一个排出口被设置于与如下空间相面对的一个内壁面上，所述空间是被支撑在烹调盘支撑部的最上层的支撑位置处的烹调盘与加热室的顶面之间的空间。由此，能够在加热室内以短时间得到烹调所要求的蒸汽浓度的烹调区域。
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