一种闪烁体膜的喷涂制备工艺
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117654849A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202211099199.9

    申请日:2022-09-08

    摘要: 本发明提供了一种闪烁体膜的喷涂制备工艺,具体步骤如下:步骤一,制备钙钛矿量子点PQD前驱体分散液或者制备钙钛矿微晶PMC前驱体分散液;步骤二,衬底清洗;步骤三,喷涂;将步骤二中清洗好的衬底置于超声喷涂设备中,并清洗超声喷涂设备的管路;随后将步骤一中制备好的前驱体分散液注入超声喷涂设备;设置超声雾化功率为1‑200w,载气为氮气且气压为0.01Mpa‑1Mpa,喷涂液流量为0.01ml/min‑10ml/min;喷头的行进速度为100mm/min‑10000mm/min;喷涂至闪烁体膜层厚度为100um‑500um,即得闪烁体膜。采用本发明的喷涂制备工艺得到的闪烁体膜大面积,膜层厚度大且均匀,大幅提升作为X射线探测器使用时的空间分辨率。