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公开(公告)号：CN118826614A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410872187.8
申请日：2024-07-01
摘要： 本发明涉及一种大坡度光伏组件自动清洗设备及方法，包括清洗液箱、定滑轮系统、自动清洗设备，待清洗的光伏组件安装在光伏支架安装面，所述定滑轮系统可拆卸地安装在光伏组件上部边缘，其能够沿着光伏组件进行横向滑动，所述自动清洗设备可拆卸地安装在光伏组件表面，用于光伏组件表面的自动清洗，所述清洗液箱与自动清洗设备相连，用于储存和输送清洗液，且作为配重块防止自动清洗设备从光伏组件上滑落。本发明提供了一种大坡度光伏组件自动清洗设备和方法，能够实现40°大角度光伏组件的自动洗清，通过间歇喷射清洗液，实现清洗液的高效利用，克服了传统人工清洗方法效率低、效果差、水资源消耗大的问题，解决了大坡度光伏组件自动化清洗难题。
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公开(公告)号：CN117816962A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410016028.8
申请日：2024-01-02
摘要： 本发明提供一种薄壁复杂空间沟槽型热管的增材‑抛光装备及方法。本发明包括选区激光熔化成形系统和抛光系统，所述选区激光熔化系统用于电子元件支座和薄壁复杂空间沟槽型热管的一体化成形或单独成形薄壁复杂空间沟槽型热管；所述抛光系统用于对成型后的薄壁复杂空间沟槽型热管的内壁进行抛光。本发明空间利用率高、结构紧凑，同时避免传统沟槽型热管拉拔、绕弯后存在的弯曲起皱、压扁塌陷、橘皮、薄壁等加工缺陷。针对增材制造后的空间三维沟槽型热管内表面，存在的粘附粉末、熔渣等成形缺陷，基于空气磨粒射流抛光系统或多相射流抛光系统的射流抛光工艺，具有经济性和高效性。
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公开(公告)号：CN116814170A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310905113.5
申请日：2023-07-21
IPC分类号： C09G1/02 , B24B37/04 , B24B37/005
摘要： 本发明提供一种原子级材料去除化学机械抛光液及抛光方法。本发明包括磨料、润滑磨粒、增稠剂及去离子水，所述磨料为柔性可变的带有金属的囊泡。本发明借助化学机械抛光工艺，采用悬浮式抛光方式，降低待抛样品承受的机械压力，避免材料去除量过高，给待抛样品带来严重的应力损伤。本发明抛光液的成分具有无毒、无污染、无腐蚀等特点，同时考虑抛光液的去除功效，本发明采用具有两亲分子、柔性、随着运动压力变化的囊泡作为抛光液中的运动粒子。通过柔性纳米微粒及多功能性二维材料与光学元件之间的范德华力、氢键、配位力实现单个或多层的原子层的可控去除、叠加去除次数，达到原子级大面积超光滑表面。
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公开(公告)号：CN116814167A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310721027.9
申请日：2023-06-15
申请人： 大连理工大学 , 杭州电子科技大学 , 西南科技大学 , 海南大学 , 中建三局集团有限公司 , 中建三局集团(海南)有限公司
摘要： 本发明涉及一种化学机械抛光液，具体是一种适用于熔融石英的含有溶解蚕丝的化学机械抛光液及其制备方法和应用。本发明抛光液包括二氧化铈、海藻酸钠和蚕丝溶液，抛光液包括0.005wt％～0.05wt％二氧化铈、0.0005wt％～0.04wt％海藻酸钠、0.005wt％～0.05wt％蚕丝溶液，其余为水。本发明抛光液的成分来源于天然产物，绿色环保，抛光液制备简单，分散性好，抛光效率(MRR)高达28.222μm/h，同时极大的降低了表面粗糙度(Sa)，Sa值为0.098nm，抛光后的表面光滑平整，无缺陷。
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公开(公告)号：CN116551555A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310516825.8
申请日：2023-05-09
申请人： 大连理工大学 , 杭州电子科技大学 , 西南科技大学 , 海南大学 , 中建三局集团有限公司 , 中建三局集团(海南)有限公司
摘要： 本发明提供一种硬脆材料复杂曲面元件光电化学机械抛光的柔性加工装置及方法，装置包括抛光机机箱、光源、抛光液池、电解装置和支撑头，光源用于在抛光过程中直接照射抛光液池；抛光液池内部盛有抛光液，内壁固定有多个抛光刷；电解装置与抛光液池连接，光源、抛光液和电解装置形成光电解池；支撑头连接有螺纹柱，螺纹柱的下方连接有配重盘和载物盘，配重盘置于载物盘之上，支撑头用于实现螺纹柱、载物盘和配重盘的回转运动；复杂曲面元件固定在载物盘下方，并置于抛光液中；抛光刷在光电解池中利用光电化学氧化和机械摩擦共同作用，对复杂曲面元件进行抛光。本发明可加工加工复杂曲面元件，具有抛光效率高、绿色环保、操作简便等优点。
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公开(公告)号：CN118699891A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202411194791.6
申请日：2024-08-29
摘要： 本发明公开了一种微纳气泡辅助多能场耦合复杂曲面化学机械抛光装备，包括床身、主轴系统、滚桶系统及数控系统；主轴系统包括用于夹持待抛光工件的夹具和用于调整夹具空间位姿的主轴，滚桶系统的滚桶内加入抛光液；还包括微纳气泡系统和超声系统；微纳气泡系统用于向滚桶内通入微纳气泡；超声系统用于使滚桶系统的滚桶进行超声振动；数控系统连接并控制主轴系统、滚桶系统、微纳气泡系统及超声系统。本发明通过设置微纳气泡系统和超声系统，利用微纳气泡增大抛光液中磨粒与待抛光工件的作用面积，并利用微纳气泡系统和超声系统提高抛光液中磨粒的机械效能和化学效能，促进抛光过程中机械去除与化学腐蚀的协同作用，实现提高抛光效率。
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公开(公告)号：CN117844379A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410006551.2
申请日：2024-01-02
摘要： 本发明提供一种单晶硅亚埃级表面抛光用的绿色环保抛光液及应用。本发明包括磨粒、还原剂、分散剂、增稠剂、pH调节剂和去离子水，其中，磨粒为氧化铈和氧化硅中的任一种或相互任意组合；还原剂为碳酸亚铁、过氧化氢、氧化铁和氢气中的至少一种；分散剂为焦磷酸钠、六偏磷酸钠、山梨醇和聚乙二醇中的至少一种；增稠剂为羧甲基纤维素钠、果胶、黄原胶、瓜尔胶、刺槐豆胶和卡拉胶中的至少一种；pH调节剂为食用碱、小苏打和三乙醇胺中至少的一种，通过，pH调节剂将抛光液的pH调至8‑11。上述成分的抛光液，加工过程中通过柔和的化学腐蚀与机械划擦耦合作用，对单晶硅表面进行超光滑超低损伤抛光，抛光后，单晶硅可获得比纳米级更优异的亚埃级表面。
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公开(公告)号：CN117381069A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311595507.1
申请日：2023-11-27
摘要： 本发明涉及一种基于纳克能的齿轮表面超精密加工装置及方法。本发明包括工作平台、运动模块和加工模块，所述运动模块的底部和加工模块的底部均安装在工作平台上，所述运动模块用于调整加工模块的高度，所述加工模块包括超声刀柄机构、模具、装夹机构和位置调整机构，待加工的工件与超声刀柄机构安装后能够放置在模具中，所述模具安装在装夹机构上，所述装夹机构设置在位置调整机构上，所述模具根据待加工零件的外形随形设计，所述模具中设置有纳米级的磁流变液，所述装夹机构为电磁铁，还包括有用于调节磁场的大小及方向，进而控制磁流变液中磁性颗粒的运动的变频器。本发明极大的提高了零件的超精密加工效率，提高了零件的表面质量。
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公开(公告)号：CN117103105A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202310963066.X
申请日：2023-08-01
摘要： 本发明提供一种用于大批量加工微小型轴承挡片的化学机械抛光设备及方法，包括夹具体以及与夹具配套使用的工作台体，夹具体中设有中空腔室，所述夹具体具有若干圆周均匀分布的小孔，且小孔中还具有连接中空腔室的抽真空通道，通过对中空腔室抽真空的方式完成夹具体的小孔对待抛光轴承挡片的装夹，所述夹具体外轮廓为轮齿结构，所述工作台体为具有内齿轮结构的抛光台，传动装置与抛光台相连。本发明解决了微小轴承挡片抛光时难以夹持的问题，夹具体可一次性装夹300～400甚至更多微小型轴承挡片，满足了该型轴承挡片大批量加工的生产需求，两夹具体交接过程简单准确，大大缩短工件装夹时间，有效提高加工效率。
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公开(公告)号：CN118682667B
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202411157357.0
申请日：2024-08-22
IPC分类号： B24C3/02 , B24C1/08 , B24C5/04 , B24C9/00 , B24C7/00 , B05B16/20 , B05B12/00 , B05B12/08 , B05B14/00 , B05B15/25
摘要： 本发明公开了一种用于复杂构件的喷砂喷雾复合抛光装备，包括：机柜和设置在机柜内的喷砂装置；喷砂装置包括多个喷砂单元，每个喷砂单元包括储料缸、喷砂软管和喷头，储料缸连通气源，储料缸与喷头通过设有喷砂开关的喷砂软管连接。本发明还公开了抛光方法，包括以下步骤：步骤S1：打开气源，将不同种类、不同粒径的磨料加入不同的储料缸中；步骤S2：把待抛光的零部件放入喷砂装置的加工区域内；步骤S3：根据待抛光的零部件选用喷砂单元，调整进入储料缸内的气体压力和喷头的角度，打开喷砂开关进行抛光，可根据待抛光的零部件的材质和结构切换不同的喷砂单元；步骤S4：抛光完成后将抛光完成的零部件取出。满足了不同种类复杂构件抛光作业的需求。
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