一种基于双转换层的沟槽型碳化硅中子探测器

    公开(公告)号:CN113206166A

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN202110457676.3

    申请日:2021-04-27

    Abstract: 本发明公开一种基于双转换层的沟槽型碳化硅中子探测器,包括由下至上依次设置的背面欧姆接触电极、N+型4H‑SiC衬底、N‑型4H‑SiC外延层、正面欧姆接触电极,所述N‑型4H‑SiC外延层顶端等间距开设有若干沟槽,所述沟槽表面和所述N+型4H‑SiC衬底顶端均设置有P+掺杂区,所述沟槽内设置有双层转换层,所述双层转换层与所述P+掺杂区相接触。本发明能够实现在有限的沟槽深度内填充两种不同的转换材料,进一步的提升中子探测效率。

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