公开(公告)号：CN101490810A

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200780026272.7

申请日：2007-04-25

申请人： 朗姆研究公司

发明人： 罗伯特·P·切比 ,  雅罗斯瓦夫·W·维尼凯克 ,  艾伦·J·米勒 ,  格拉迪斯·S·洛

IPC分类号： H01L21/26 ,  H01L21/42 ,  B44C1/22

CPC分类号： H01L21/31138 ,  H01J37/321 ,  H01J2237/3342

摘要： 一种保护基片上有效区域的方法包括将基片设置在等离子反应器的电感耦合等离子处理室中，提供工艺气体至该等离子处理室，由该工艺气体生成等离子，利用该等离子处理该基片，从而通过以下方式保护该有效区域：将该基片的等离子电势保持在5至15伏特；和/或通过使用不含硅烷的工艺气体钝化该有效区域，该气体包括至少一种可在该基片的有效区域上形成保护层的添加剂，其中该保护层包括至少一种来自该添加剂的且已经存在于该有效区域中的元素。

公开(公告)号：CN101490810B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200780026272.7

申请日：2007-04-25

申请人： 朗姆研究公司

发明人： 罗伯特·P·切比 ,  雅罗斯瓦夫·W·维尼凯克 ,  艾伦·J·米勒 ,  格拉迪斯·S·洛

IPC分类号： H01L21/26 ,  H01L21/42 ,  B44C1/22

CPC分类号： H01L21/31138 ,  H01J37/321 ,  H01J2237/3342

摘要： 一种保护基片上有效区域的方法包括将基片设置在等离子反应器的电感耦合等离子处理室中，提供工艺气体至该等离子处理室，由该工艺气体生成等离子，利用该等离子处理该基片，从而通过以下方式保护该有效区域：将该基片的等离子电势保持在5至15伏特；和/或通过使用不含硅烷的工艺气体钝化该有效区域，该气体包括至少一种可在该基片的有效区域上形成保护层的添加剂，其中该保护层包括至少一种来自该添加剂的且已经存在于该有效区域中的元素。