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公开(公告)号：CN119447028A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411564911.7
申请日：2024-11-04
Applicant: 暨南大学
IPC: H01L21/768 , H01L21/027 , H01L23/522
Abstract: 本发明公开了一种功能层图形化方法及其应用。所述方法包括：在基底表面形成图形化的光刻胶层，且光刻胶层设置有隔离槽，隔离槽不连续地包围目标图形并具有多个径向延伸的桥联结构，桥联结构连接处于隔离槽内外侧的光刻胶层；沉积形成功能层；对光刻胶层进行剥离处理，使光刻胶层以及附着于光刻胶层表面的部分功能层脱离基底，保留具有目标图形的另一部分功能层。本发明利用不连续的隔离槽对图形化区域进行周向包围，阻隔了在功能层沉积过程中产生的应力，还避免了完全包围开槽导致的槽内膜层漂移的现象，可以在图形化光刻胶上实现无裂纹、无起皱、无漂移现象的功能层沉积以及图形化。
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