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公开(公告)号：CN100414150C
公开(公告)日：2008-08-27
申请号：CN200480011527.9
申请日：2004-04-27
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: F16K25/005 , C09K3/10 , C09K2200/0617 , C09K2200/0655 , C09K2200/0667 , C09K2200/067 , C09K2200/0682 , F16J15/122 , F16J2015/0856 , F16K27/00 , F17C5/06 , F17C7/00 , F17C13/04 , F17C2205/0329 , F17C2205/0338 , F17C2205/0341 , F17C2221/03 , F17C2221/05 , F17C2250/0443 , F17C2250/0626 , F17C2260/053 , F17C2270/0518
Abstract: 本发明涉及用于供给高纯度氨气的设备和方法。本发明的目的是提供一种用于供给高纯度氨气的系统，在该系统中，适当地采用不会由于腐蚀产生颗粒并且不会导致在气体供给通路(例如气缸阀，压力调节器，压力计，质量流量控制器，线路阀和过滤器)内部形成腐蚀或反应产物的供给设备用于从气缸到生产设备的气体流路，由此在不恶化具有更高性能的半导体器件的纯度和生产的情况下实现高纯度氨气的更安全和更高效的供给。本发明用于供给高纯度氨气的设备包括密封部和/或气体接触部，该密封部和/或气体接触部包括无卤素树脂。供给高纯度氨气的气体流路是通过上述高纯度氨气供给设备构成的，并且由此能够在不恶化气体纯度的情况下将高纯度氨气供给到用于生产半导体器件的设备。
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公开(公告)号：CN1780998A
公开(公告)日：2006-05-31
申请号：CN200480011527.9
申请日：2004-04-27
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: F16K25/005 , C09K3/10 , C09K2200/0617 , C09K2200/0655 , C09K2200/0667 , C09K2200/067 , C09K2200/0682 , F16J15/122 , F16J2015/0856 , F16K27/00 , F17C5/06 , F17C7/00 , F17C13/04 , F17C2205/0329 , F17C2205/0338 , F17C2205/0341 , F17C2221/03 , F17C2221/05 , F17C2250/0443 , F17C2250/0626 , F17C2260/053 , F17C2270/0518
Abstract: 本发明涉及用于供给高纯度氨气的设备和方法。本发明的目的是提供一种用于供给高纯度氨气的系统，在该系统中，适当地采用不会由于腐蚀产生颗粒并且不会导致在气体供给通路(例如气缸阀，压力调节器，压力计，质量流量控制器，线路阀和过滤器)内部形成腐蚀或反应产物的供给设备用于从气缸到生产设备的气体流路，由此在不恶化具有更高性能的半导体器件的纯度和生产的情况下实现高纯度氨气的更安全和更高效的供给。本发明用于供给高纯度氨气的设备包括密封部和/或气体接触部，该密封部和/或气体接触部包括无卤素树脂。供给高纯度氨气的气体流路是通过上述高纯度氨气供给设备构成的，并且由此能够在不恶化气体纯度的情况下将高纯度氨气供给到用于生产半导体器件的设备。
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