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公开(公告)号:CN112185428B
公开(公告)日:2022-03-18
申请号:CN202010578142.1
申请日:2020-06-23
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 提供一种基底层和垂直磁记录层的晶体取向性较高的磁记录介质。磁记录介质(10)在非磁性衬底(1)上依次具有软磁性层(2)、第一种子层(3)、第二种子层(4)、基底层(5)、以及垂直磁记录层(6)。第一种子层(3)包含MoS2、六方BN、WS2、WSe2或石墨。第二种子层(4)包含具有六方纤锌矿型晶体结构的AlN。基底层(5)包含Ru。
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公开(公告)号:CN112185428A
公开(公告)日:2021-01-05
申请号:CN202010578142.1
申请日:2020-06-23
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 提供一种基底层和垂直磁记录层的晶体取向性较高的磁记录介质。磁记录介质(10)在非磁性衬底(1)上依次具有软磁性层(2)、第一种子层(3)、第二种子层(4)、基底层(5)、以及垂直磁记录层(6)。第一种子层(3)包含MoS2、六方BN、WS2、WSe2或石墨。第二种子层(4)包含具有六方纤锌矿型晶体结构的AlN。基底层(5)包含Ru。
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