公开(公告)号：CN103562366A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201280022749.5

申请日：2012-05-24

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  帕卡股份有限公司

Inventor： 榎本久男 ,  佐原幸治 ,  金子爱子 ,  石川智章 ,  横山哲史 ,  前柳佳孝 ,  田中明

IPC: C11D1/44 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  C03C23/00 ,  C11D3/34 ,  C11D3/36 ,  C11D3/37 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C03C23/0075 ,  C11D1/44 ,  C11D3/1213 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/3454 ,  C11D3/362

Abstract: 本发明涉及清洗剂和玻璃基板的清洗方法。在不损害用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板的平坦性的情况下，将残留、附着于表面上的研磨磨粒分散、除去。该清洗剂是用于对用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板进行清洗的、包含(A)有机膦酸、(B)多元羧酸盐、(C)芳族磺酸和(D)胺－环氧烷加成物的水系清洗剂。玻璃基板的清洗方法包括：使用含有氧化铈的研磨剂对玻璃基板进行研磨的研磨工序，以及利用上述清洗剂对该研磨工序后的该玻璃基板进行清洗的清洗工序。

公开(公告)号：CN104781204A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201380059747.8

申请日：2013-11-19

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  帕卡股份有限公司

Inventor： 榎本久男 ,  佐原幸治 ,  石川智章 ,  城山厚 ,  前柳佳孝 ,  竹中敦义 ,  小林大介 ,  高桥秀幸 ,  中岛阳司

IPC: C03C23/00 ,  C11D1/44 ,  C11D3/20 ,  C11D3/34 ,  C11D3/36 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C11D11/0064 ,  C03C23/0075 ,  C11D3/044 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/362 ,  C11D11/0035 ,  C11D11/0041

Abstract: 本发明提供研磨后的玻璃基板的清洗方法，该方法可抑制在清洗后的玻璃基板表面所形成的树脂BM膜的密合性降低，防止树脂BM膜的剥离。该玻璃基板的清洗方法的特征是，对于利用含有氧化铈粒子的研磨剂进行研磨后的玻璃基板，用含有有机酸的酸性的水系清洗液进行清洗，接着用含有碱的碱性的水系清洗液进行清洗。