玻璃基板吸附用具及玻璃基板的制造方法

    公开(公告)号:CN103910161A

    公开(公告)日:2014-07-09

    申请号:CN201310741157.5

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制玻璃基板的处理造成的损伤的玻璃基板吸附用具及玻璃基板的制造方法。一种玻璃基板吸附用具,其具备:流路(81);吸附部(60),其能够利用范德瓦尔斯力吸附玻璃基板;压力控制部(80a),其使所述流路(81)内的流体压力变化;片材(100),其在所述流路(81)与所述吸附部(60)之间通过所述流体压力的变化而变形,以使在所述吸附部(60)和与所述吸附部(60)接触的玻璃基板之间产生的吸附力变化。一种玻璃基板的制造方法,具有研磨玻璃基板的工序、清洗玻璃基板的工序、检查玻璃基板的工序,其特征在于,使用所述玻璃基板吸附用具来搬运玻璃基板。

    EUV光刻用反射型掩模基板的制造方法

    公开(公告)号:CN102292807A

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN201080005564.4

    申请日:2010-01-26

    CPC classification number: H01L21/6831 G03F1/24 G03F7/70708

    Abstract: 本发明提供静电吸盘和玻璃衬底之间因夹杂颗粒等异物而对玻璃衬底表面或吸盘面造成损伤这一情况的发生得到抑制的EUV掩模基板的制造方法。该EUV掩模基板的制造方法的特征在于,吸附保持玻璃衬底的静电吸盘在主体上依次具备由有机高分子膜形成的下部电介质层、由导电性材料形成的电极部及由有机高分子膜形成的上部电介质层,所述电极部包括正电极和负电极。

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