用于制造能够激光蚀刻的印刷基底的方法

    公开(公告)号:CN100572088C

    公开(公告)日:2009-12-23

    申请号:CN200580003222.8

    申请日:2005-01-26

    CPC classification number: G03F7/168 B41C1/05 G03F7/18

    Abstract: 一种用于制造可激光蚀刻印刷基底的方法,包括以下步骤:在圆筒形支撑体或者片状支撑体上形成光敏树脂组合物层;以及对所形成的光敏树脂组合物层施加光,以形成厚度大于等于50微米且小于等于50毫米的固化光敏树脂层,其中施加到光敏树脂组合物层的光包括波长大于等于200纳米且小于等于450纳米的光,而当利用由Ohku Seisakusho制造的型号为“UV-M02”的紫外计和由Ohku Seisakusho制造的型号为“UV-35-APR滤波器”的第一滤波器测量时,光敏树脂组合物层的表面上的光照度大于等于20mW/cm2且小于等于2W/cm2,当利用所述紫外计和由OhkuSeisakusho制造的型号为“UV-25滤波器”的第二滤波器测量时,光敏树脂组合物层的表面上的光照度大于等于3mW/cm2且小于等于2W/cm2。

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