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公开(公告)号:CN1929927A
公开(公告)日:2007-03-14
申请号:CN200580007572.1
申请日:2005-03-09
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: B05D7/24 , H01L21/368 , H01L29/786 , H01L51/00
CPC classification number: C07B63/00 , H01L51/0003 , H01L51/0007 , H01L51/0054 , H01L51/0055 , H01L51/0056 , H01L51/0545
Abstract: 本发明提供具有高移动度的有机半导体薄膜及其制造方法,以及用于该有机半导体薄膜通过湿法工艺制造的材料及其制造方法。另外,提供电子特性优良的有机半导体元件。把高纯度戊省与1,2,4-三氯苯的混合物加热,配制均匀溶液。把形成了作为源·漏电极的金电极图案的硅基板加热至100℃,在其表面展开戊省溶液。通过使1,2,4-三氯苯蒸发,形成戊省薄膜,制成晶体管。
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公开(公告)号:CN1929927B
公开(公告)日:2011-06-15
申请号:CN200580007572.1
申请日:2005-03-09
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: B05D7/24 , H01L21/368 , H01L29/786 , H01L51/00
CPC classification number: C07B63/00 , H01L51/0003 , H01L51/0007 , H01L51/0054 , H01L51/0055 , H01L51/0056 , H01L51/0545
Abstract: 本发明提供具有高移动度的有机半导体薄膜及其制造方法,以及用于该有机半导体薄膜通过湿法工艺制造的材料及其制造方法。另外,提供电子特性优良的有机半导体元件。把高纯度戊省与1,2,4-三氯苯的混合物加热,配制均匀溶液。把形成了作为源·漏电极的金电极图案的硅基板加热至100℃,在其表面展开戊省溶液。通过使1,2,4-三氯苯蒸发,形成戊省薄膜,制成晶体管。
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