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公开(公告)号：CN110384809A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910322998.X
申请日：2019-04-22
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: A61L2/10
Abstract: 本发明提供一种流体杀菌组件，其能够抑制如下情况的发生，即：因组装误差而在流经流路的流体中形成流速较快的部分，从而导致流速产生偏差。因此，流体杀菌组件包括：内筒，其形成沿长度方向延伸的筒状的处理流路；第一室，其经由内筒的一端侧的开口部与处理流路连通；流入部，其用于使对象物流入第一室；流出部，其用于使经过处理流路的对象物从内筒的另一端侧流出；以及发光元件，其面向处理流路的另一端侧的开口部地设置，能够沿着长度方向朝向经过处理流路的对象物照射紫外光。第一室的内容积为处理流路的等效内径的立方的2/3以上且为处理流路的内容积的3倍以下。
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公开(公告)号：CN104380206A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380025153.5
申请日：2013-05-10
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: G03F7/24 , B29C33/38 , B29C59/04 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2022 , B29C33/38 , G03F7/0002 , G03F7/24
Abstract: 在滚筒模具的表面上针对每一规定区域向圆周方向曝光掩模图案的所谓的步进与重复方法中，可提高掩模图案间的间隔精度，从而可抑制在掩模图案旋转一周时接缝偏移。为实现该目的，本发明所涉及的滚筒模具制作装置包括：掩模(3)，其具有使被照射物的一部分透过的功能；旋转驱动装置，其使滚筒模具(100)绕旋转轴旋转；旋转量检测传感器，其检测旋转量；控制装置，其发送用于调整被照射物在滚筒模具(100)的抗蚀剂上的圆周方向描画位置的控制信号；以及致动器(7)，其使掩模(3)直线状移动，在使滚筒模具(100)停止旋转的状态下将被照射物照射至规定范围，使该滚筒模具(100)旋转规定量并停止，并调整将被照射物照射至另一规定范围时的圆周方向描画位置。
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公开(公告)号：CN103003055A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201180028829.7
申请日：2011-06-08
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: B29C33/3842 , B23K15/08 , B29C33/38 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , G03F7/2037 , G03F7/24 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/3174 , H01J2237/20214 , H01J2237/2025 , H01J2237/20271 , H01J2237/20285
Abstract: 本发明能够一边抑制成本增加一边抑制滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆引起描画图案变得不鲜明的情况。为了实现该目的，滚筒模具制作装置（1）包括：电子束照射装置（2）；掩模（3），该掩模具有使电子束的一部分透过的开口部，以形成同时在抗蚀剂上进行描画的多束电子束；使滚筒模具（100）绕旋转轴旋转的旋转驱动装置（4）；对滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移量进行检测位移量检测传感器（5）；控制装置（6）；以及致动器（7），该致动器（7）根据来自该控制装置（6）的控制信号使电子束的描画位置与滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的位移随动，抑制滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移所导致的抗蚀剂的曝光位置的偏差。
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公开(公告)号：CN114173830B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202080054475.2
申请日：2020-07-30
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在组装精度较低的情况下也不会产生流体等被照射对象物的泄漏并且可靠性优异的紫外线照射装置。因此，紫外线照射装置(1)具有形成处理流路(21d)的内筒(21)、使对象物向处理流路(21d)流入的流入部(4)、收纳内筒(21)的外筒(22)、向经过处理流路(21d)的对象物照射紫外光的发光元件(33c)、将设于内筒(21)的外周面与外筒(22)的内周面之间的空间划分为供照射紫外光之前的对象物经过的第一室(26)和供照射紫外光之后的对象物经过的第三室(28)的O型环(24)、以及经由连通孔(65)与第一室(26)连通的第二室(27)，第二室(27)和处理流路(21d)经由板(23)连通。
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公开(公告)号：CN110384809B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201910322998.X
申请日：2019-04-22
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: A61L2/10
Abstract: 本发明提供一种流体杀菌组件，其能够抑制如下情况的发生，即：因组装误差而在流经流路的流体中形成流速较快的部分，从而导致流速产生偏差。因此，流体杀菌组件包括：内筒，其形成沿长度方向延伸的筒状的处理流路；第一室，其经由内筒的一端侧的开口部与处理流路连通；流入部，其用于使对象物流入第一室；流出部，其用于使经过处理流路的对象物从内筒的另一端侧流出；以及发光元件，其面向处理流路的另一端侧的开口部地设置，能够沿着长度方向朝向经过处理流路的对象物照射紫外光。第一室的内容积为处理流路的等效内径的立方的2/3以上且为处理流路的内容积的3倍以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114173830A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080054475.2
申请日：2020-07-30
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在组装精度较低的情况下也不会产生流体等被照射对象物的泄漏并且可靠性优异的紫外线照射装置。因此，紫外线照射装置(1)具有形成处理流路(21d)的内筒(21)、使对象物向处理流路(21d)流入的流入部(4)、收纳内筒(21)的外筒(22)、向经过处理流路(21d)的对象物照射紫外光的发光元件(33c)、将设于内筒(21)的外周面与外筒(22)的内周面之间的空间划分为供照射紫外光之前的对象物经过的第一室(26)和供照射紫外光之后的对象物经过的第三室(28)的O型环(24)、以及经由连通孔(65)与第一室(26)连通的第二室(27)，第二室(27)和处理流路(21d)经由板(23)连通。
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公开(公告)号：CN110384808B
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201910322966.X
申请日：2019-04-22
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在组装精度较低的情况下也不会发生杀菌对象的流体的泄漏，且坚固性优异的紫外线照射装置。因此，流体杀菌组件包括：内筒；壳体部，其收纳内筒；区划构件，其与内筒的外周面和壳体部的内周面紧密接触地设于内筒的外周面和壳体部的内周面之间；第一室以及第二室，该第一室是内筒与壳体部之间的筒状的间隙中的比区划构件靠内筒的一端侧的区域，该第二室是内筒与壳体部之间的筒状的间隙中的比区划构件靠内筒的另一端侧的区域；流入部，其用于使对象物流入第一室；流出部，其用于使对象物从第二室流出；以及发光元件(34a)，其设于内筒的一端侧和另一端侧中的至少一者，该发光元件能够朝向经过处理流路(21d)的对象物照射紫外光。
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公开(公告)号：CN110384808A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910322966.X
申请日：2019-04-22
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在组装精度较低的情况下也不会发生杀菌对象的流体的泄漏，且坚固性优异的紫外线照射装置。因此，流体杀菌组件包括：内筒；壳体部，其收纳内筒；区划构件，其与内筒的外周面和壳体部的内周面紧密接触地设于内筒的外周面和壳体部的内周面之间；第一室以及第二室，该第一室是内筒与壳体部之间的筒状的间隙中的比区划构件靠内筒的一端侧的区域，该第二室是内筒与壳体部之间的筒状的间隙中的比区划构件靠内筒的另一端侧的区域；流入部，其用于使对象物流入第一室；流出部，其用于使对象物从第二室流出；以及发光元件(34a)，其设于内筒的一端侧和另一端侧中的至少一者，该发光元件能够朝向经过处理流路(21d)的对象物照射紫外光。
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公开(公告)号：CN104380206B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380025153.5
申请日：2013-05-10
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: G03F7/24 , B29C33/38 , B29C59/04 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2022 , B29C33/38 , G03F7/0002 , G03F7/24
Abstract: 在滚筒模具的表面上针对每一规定区域向圆周方向曝光掩模图案的所谓的步进与重复方法中，可提高掩模图案间的间隔精度，从而可抑制在掩模图案旋转一周时接缝偏移。为实现该目的，本发明所涉及的滚筒模具制作装置包括：掩模(3)，其具有使被照射物的一部分透过的功能；旋转驱动装置，其使滚筒模具(100)绕旋转轴旋转；旋转量检测传感器，其检测旋转量；控制装置，其发送用于调整被照射物在滚筒模具(100)的抗蚀剂上的圆周方向描画位置的控制信号；以及致动器(7)，其使掩模(3)直线状移动，在使滚筒模具(100)停止旋转的状态下将被照射物照射至规定范围，使该滚筒模具(100)旋转规定量并停止，并调整将被照射物照射至另一规定范围时的圆周方向描画位置。
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公开(公告)号：CN103003055B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201180028829.7
申请日：2011-06-08
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: B29C33/3842 , B23K15/08 , B29C33/38 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , G03F7/2037 , G03F7/24 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/3174 , H01J2237/20214 , H01J2237/2025 , H01J2237/20271 , H01J2237/20285
Abstract: 本发明能够一边抑制成本增加一边抑制滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆引起描画图案变得不鲜明的情况。为了实现该目的，滚筒模具制作装置（1）包括：电子束照射装置（2）；掩模（3），该掩模具有使电子束的一部分透过的开口部，以形成同时在抗蚀剂上进行描画的多束电子束；使滚筒模具（100）绕旋转轴旋转的旋转驱动装置（4）；对滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移量进行检测位移量检测传感器（5）；控制装置（6）；以及致动器（7），该致动器（7）根据来自该控制装置（6）的控制信号使电子束的描画位置与滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的位移随动，抑制滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移所导致的抗蚀剂的曝光位置的偏差。
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