被覆切削工具和其制造方法

    公开(公告)号:CN106102972A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201580014289.5

    申请日:2015-03-18

    Abstract: 本发明的一个实施方式提供一种被覆切削工具,其具有:基材和硬质覆膜,对于硬质覆膜,由相对于金属(包含半金属)元素的总量、Al的含有比率为50原子%以上且68原子%以下、Cr的含有比率为20原子%以上且46原子%以下、Si的含有比率为4原子%以上且15原子%以下的氮化物或碳氮化物形成,且将金属(包含半金属)元素、氮、氧和碳的总计设为100原子%时的金属(包含半金属)元素的原子比率(原子%)A与氮的原子比率(原子%)B满足1.03≤B/A≤1.07的关系,由X射线衍射图案或透射式电子显微镜的选区衍射图案求出的强度曲线中,面心立方晶格结构的(200)面或(111)面所产生的峰强度显示出最大强度。

    被覆切削工具和其制造方法

    公开(公告)号:CN106102972B

    公开(公告)日:2018-05-01

    申请号:CN201580014289.5

    申请日:2015-03-18

    Abstract: 本发明的一个实施方式提供一种被覆切削工具,其具有:基材和硬质覆膜,对于硬质覆膜,由相对于金属(包含半金属)元素的总量、Al的含有比率为50原子%以上且68原子%以下、Cr的含有比率为20原子%以上且46原子%以下、Si的含有比率为4原子%以上且15原子%以下的氮化物或碳氮化物形成,且将金属(包含半金属)元素、氮、氧和碳的总计设为100原子%时的金属(包含半金属)元素的原子比率(原子%)A与氮的原子比率(原子%)B满足1.03≤B/A≤1.07的关系,由X射线衍射图案或透射式电子显微镜的选区衍射图案求出的强度曲线中,面心立方晶格结构的(200)面或(111)面所产生的峰强度显示出最大强度。

    覆盖工具及其制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110616399B

    公开(公告)日:2022-05-24

    申请号:CN201910844177.2

    申请日:2014-03-27

    Abstract: 本发明提供覆盖工具及其制造方法,其是利用过滤电弧离子镀法在基材的表面覆盖类金刚石覆膜的覆盖工具的制造方法,包括以下工序:气体轰击处理工序:向炉内导入含氢气的混合气体,对所述基材的表面进行气体轰击处理的工序;以及覆盖工序:向气体轰击处理后的所述炉内导入5sccm以上且30sccm以下的氮气,一边减少向炉内导入的所述氮气的流量,一边使用石墨靶对所述基材的表面覆盖膜厚为0.1μm~1.5μm的类金刚石覆膜的工序。

    加工条件预测装置和加工条件预测方法

    公开(公告)号:CN103941641B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201410022892.5

    申请日:2014-01-17

    CPC classification number: G05B19/4065 G05B2219/49225

    Abstract: 不构建数据库地利用多个加工条件的选择项抑制工具的边界磨损预测长寿命的加工条件。本发明的加工条件预测装置包括:定义表示作为分析对象的工具和被切削材料的形状的分析模型、以及加工条件参数的单元;设定加工条件参数的分析用初始值、变化率的单元;按照分析参数的每一种组合对分析模型的工具与被切削材料接触的接触长度进行几何计算的单元;生成对计算出的各刀尖脊线上的各点位置γi的接触长度Lci在γi?Lci坐标轴上作图而得到的分布波形,计算出边界部移动长度对最大接触长度的比例和工具刀尖与被切削材料接触的宽度的比例的单元;搜索边界移动率或接触率分别成为最大的分析参数的单元;和根据搜索到的分析参数输出长寿命的加工条件的单元。

    滑动特性优异的被覆构件

    公开(公告)号:CN103826773B

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201280046447.1

    申请日:2012-09-26

    Abstract: 本发明的目的在于提供部件使用时的初期阶段中的突发性咬伤被抑制、滑动特性优异的被覆构件。一种滑动特性优异的被覆构件,该被覆构件在作业面具有硬质覆膜,所述硬质覆膜包括:A层,其中交替层叠有a1层和a2层,所述a1层包含按金属(包括半金属。以下相同)部分的原子比率计铬为30%以上的氮化物、碳氮化物或氮氧化物,所述a2层包含按金属部分的原子比率计钒为60%以上的氮化物、碳氮化物或氮氧化物;以及B层,其位于该A层的上层,包含按金属部分的原子比率计钒为60%以上的氮化物、碳氮化物或氮氧化物,所述A层中a1层和a2层各层的膜厚为50nm以下、且a2层的膜厚厚于a1层的膜厚,所述B层的膜厚为0.1μm以上。

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