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公开(公告)号:CN1369689A
公开(公告)日:2002-09-18
申请号:CN02103394.3
申请日:2002-02-04
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: G01C17/32
CPC classification number: G01R33/09 , G01R33/0206
Abstract: 所公开的方位计具有用于施加偏置磁场的薄膜平面线圈以及与此线圈的相对导体边交叉设置的至少一对磁阻元件对(设为第一与第二磁阻薄板)。此平面线圈具有至少一对相对导体边(设为第一与第二边)。此第一磁阻薄板与此第一边交叉成大于30°而小于90°的角。此第二磁阻薄板与此第二边交叉成大于30°而小于90°的角。在对磁阻薄板分别施加正反方向的偏置磁场的同时,测定磁阻元件对的中间电位,根据此两中间电位的差而检测出方位。
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公开(公告)号:CN100343627C
公开(公告)日:2007-10-17
申请号:CN02103394.3
申请日:2002-02-04
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: G01C17/28
CPC classification number: G01R33/09 , G01R33/0206
Abstract: 所公开的方位计具有用于施加偏置磁场的薄膜平面线圈以及与此线圈的相对导体边交叉设置的至少一对磁阻元件对(设为第一与第二磁阻薄板)。此平面线圈具有至少一对相对导体边(设为第一与第二边)。此第一磁阻薄板与此第一边交叉成大于30°而小于90°的角。此第二磁阻薄板与此第二边交叉成大于30°而小于90°的角。在对磁阻薄板分别施加正反方向的偏置磁场的同时,测定磁阻元件对的中间电位,根据此两中间电位的差而检测出方位。
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