真空蒸镀装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105316625B

    公开(公告)日:2019-10-22

    申请号:CN201510245745.9

    申请日:2015-05-14

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。材料供给装置(3)向用于在基板(K)上形成薄膜的蒸镀用容器(1)内供给蒸镀材料,材料供给装置(3)包括:材料填充容器(11),填充有蒸镀材料;材料引导管道(12),利用从气体供给装置(14)供给的不活泼气体,将蒸镀材料从材料填充容器(11)向蒸镀用容器(1)内引导;加热器(17),加热所述材料引导管道(12)以使蒸镀材料气化;以及振动赋予器(13),对材料填充容器(11)赋予振动。

    真空蒸镀装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105316625A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201510245745.9

    申请日:2015-05-14

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。材料供给装置(3)向用于在基板(K)上形成薄膜的蒸镀用容器(1)内供给蒸镀材料,材料供给装置(3)包括:材料填充容器(11),填充有蒸镀材料;材料引导管道(12),利用从气体供给装置(14)供给的不活泼气体,将蒸镀材料从材料填充容器(11)向蒸镀用容器(1)内引导;加热器(17),加热所述材料引导管道(12)以使蒸镀材料气化;以及振动赋予器(13),对材料填充容器(11)赋予振动。

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