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公开(公告)号：CN118974436A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380028644.9
申请日：2023-03-07
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Abstract: 该缓冲器具有：缸体，其封入工作流体；活塞，其嵌装于所述缸体内，对该缸体内进行划分；第一通路，其通过所述活塞的一方向的移动而产生所述工作流体的流动；第一阻尼阀，其对从所述第一通路的上游侧的室向下游侧的室的所述工作流体的流动施加阻力；第二通路，其通过所述活塞的另一方向的移动而产生所述工作流体的流动；第二阻尼盘阀，其对从所述第二通路的上游侧的室向下游侧的室的所述工作流体的流动施加阻力；所述第二阻尼盘阀具有将上游侧的室和下游侧的室始终连通的第三通路、以及与上游侧的室连通的第四通路，与所述第四通路连通且由根据上游侧或下游侧的室的压力变化而可动的划分部件划分的可变室与所述第二阻尼盘阀重叠地配置。
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公开(公告)号：CN118922650A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202380028923.5
申请日：2023-03-07
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Inventor： 小谷崇将
IPC: F16F9/34
Abstract: 该缓冲器具有缸体、活塞、活塞杆、第一通路、第一阻尼力产生机构、第二通路以及第二阻尼力产生机构。所述第一阻尼力产生机构具有：第一阀，其径向内侧被从轴向两侧固定，并且以能够关闭所述第一通路的方式配置；一个或多个第二阀，其径向内侧的固定部与所述第一阀一起被从轴向两端固定，向关闭所述第一通路的方向产生作用力。所述第二阀形成为比设置于所述第一通路的外周侧的座部的内径大径，在至少一个所述第二阀，在比所述固定部靠径向外侧的一部分形成有与径向内侧相比促进径向外侧的轴向的挠曲的挠曲促进部。
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公开(公告)号：CN117980622A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202280062160.1
申请日：2022-09-13
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Abstract: 阻尼力产生机构(190)具有：作用力产生部件(91)，其为有底筒状，使配置于开口(145)侧的第一阻尼力产生部件(203)产生闭阀方向的作用力；规定部件(18)，其设置于作用力产生部件(91)的底部(92)侧，形成将一侧室和另一侧室(20)连通的通路(43、44)；频率感应机构(191)，其设置于规定部件(18)与第一阻尼力产生部件(203)之间，将可动部(171)设置为能够移动，使作用力可变；座形成部件(205)，其设置于作用力产生部件(91)的开口(145)侧，形成供第一阻尼力产生部件(203)落座的座(233)。
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公开(公告)号：CN116171356A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202180059862.X
申请日：2021-07-14
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Inventor： 小谷崇将
IPC: F16F9/34
Abstract: 该缓冲器具备：第一通路(92)，所述第一通路(92)通过活塞(21)的移动而使工作流体从成为上游侧的室向成为下游侧的室(23)流出；第一衰减力产生机构(41)，所述第一衰减力产生机构(41)设置于第一通路(92)，产生衰减力；第二通路(182)，所述第二通路(182)与第一通路(92)分开设置；第二衰减力产生机构(183)，所述第二衰减力产生机构(183)设置于第二通路(182)，在活塞速度比第一衰减力产生机构(41)低时开阀而产生衰减力；第三通路(512)，所述第三通路(512)与第二通路(182)分开设置；体积可变机构(186)，所述体积可变机构(186)设置于第三通路(512)；第四通路(521)，所述第四通路(521)与第三通路(512)分开设置；以及溢流机构(522)，所述溢流机构(522)设置于第四通路(521)，在第二衰减力产生机构(183)开阀之后开阀。
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公开(公告)号：CN119404024A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380048687.3
申请日：2023-05-19
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Abstract: 该阻尼力产生机构具有：作用力产生部件，其为有底筒状且形成使在开口侧配置的第一阻尼力产生部件产生闭阀方向的作用力的背压室；频率响应机构，其在设置于所述作用力产生部件的底部并将所述背压室与第一室连结的第一通路中以能够移动的方式设有可动机构，所述可动机构具有通过弹性部件对所述第一通路进行密封的密封部，使所述作用力可变；第二通路，其与所述第一通路并列或者共通，一侧能够与所述背压室连通；连通机构，其处于所述第二通路的所述一侧，仅在所述第一室处于上游侧时能够与所述第二通路的另一侧连通。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117999424A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202280064356.4
申请日：2022-07-20
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Inventor： 小谷崇将
Abstract: 该缓冲器具有：缸体，其封入有工作流体；活塞，其能够滑动地嵌装在所述缸体内，将所述缸体内区划为两个室；连杆，其第一端部与所述活塞联结，第二端部从所述缸体突出；通路，其将所述缸体内的一方的室与另一方的室之间连通；能够挠曲的板状第一阀门，其设置在所述通路，具有：支承径向内侧的一侧面的第一支承部、配置在比所述第一支承部更靠近径向外侧且支承一侧面的第二支承部、以及至少一部分设置在比所述第二支承部更靠近径向外侧且对所述第二支承部侧施力的施力部；挠曲部件，其与所述第一支承部抵接，并且能够与所述第一阀门一起挠曲。
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公开(公告)号：CN116134238A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202180059027.6
申请日：2021-07-14
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
IPC: F16F9/34
Abstract: 该缓冲器具有设置于活塞(21)的通路(72、92)的第一衰减力产生机构(41、42)和设置于活塞杆(25)的第二衰减力产生机构(173、183)。第二衰减力产生机构(173、183)具备阀座部件(109)、设置于阀座部件(109)的副阀(107、110)及覆盖第二衰减力产生机构(173)的一端侧和阀座部件(109)的外周的至少一部分的盖部件(305)。在盖部件(305)的一端侧形成有连通路(148、302)。配置有以使一端面侧与盖部件(305)的比连通路(148、302)靠外周侧处抵接的方式设置的施力部件(116、117)和以供施力部件(116、117)的另一端面侧抵接的方式设置的能够挠曲的挠性盘(100)。
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公开(公告)号：CN114072596A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202080046696.5
申请日：2020-03-25
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Abstract: 具有：缸，其供工作流体封入；活塞，其可滑动地设置在所述缸内，并将该缸内划分为两个室；活塞杆，其与所述活塞连结并且延伸到所述缸的外部；第一通路以及第二通路，其通过所述活塞的移动使工作流体流出；第一衰减力产生机构，其设置在所述第一通路上，产生衰减力；第二衰减力产生机构，其设置在所述第二通路上，产生衰减力。所述第二衰减力产生机构具有：副阀，其设置在所述第二通路的一侧；体积可变机构，其变更与所述第二通路并联地设置的体积室的体积。
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公开(公告)号：CN118900959A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202380029151.7
申请日：2023-03-17
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
Inventor： 小谷崇将
Abstract: 该缓冲器具备缸体、活塞、活塞杆、第一通路、第二通路、第一阻尼力机构以及第二阻尼力机构。第二阻尼力机构设置于所述第二通路，具有划分部件和闭阀部，使阻尼力可变，所述划分部件划分所述第二通路，并且通过因所述活塞的移动而流入的工作流体而位移，将所述第二通路内的至少一部分的所述工作流体向所述缸体内排出，所述闭阀部在所述第二通路内与所述划分部件之间形成封闭的压力室，限制所述压力室内的所述工作流体的移动。
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公开(公告)号：CN116783406A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202280012771.5
申请日：2022-01-12
Applicant: 日立安斯泰莫株式会社
IPC: F16F9/348
Abstract: 该缓冲器具有缸、活塞、活塞杆、分隔壁部件和衰减力产生机构。所述衰减力产生机构具有：多个座部，其在成为通路的下游侧的室侧的分隔壁部件的端面突出地设置，具有包围所述通路并且在周向上等间隔地设置的相同形状的大径部以及直径与所述大径部的直径不同、在周向上等间隔地设置的小径部；阀，其与所述座部抵接；彼此具有相同形状的多个施力部，其在周向上等间隔地设置，将所述阀向所述座部的方向施力。
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