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公开(公告)号：CN1769349B
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200510117095.6
申请日：2003-02-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
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公开(公告)号：CN1320073C
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200410097089.4
申请日：2003-02-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09D183/04 , H01L21/316
CPC classification number: H01L23/5329 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , Y10T428/31663 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
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公开(公告)号：CN100510961C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200480000498.6
申请日：2004-10-07
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种放射线固化性组合物、其保存方法、固化膜形成方法、图案形成方法、图案使用方法、电子元件及光波导。本发明的放射线固化性组合物含有(a)成分：硅氧烷树脂、(b)成分：光酸发生剂或光碱发生剂、(c)成分：能够溶解(a)成分的溶剂以及(d)成分：固化促进催化剂。
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公开(公告)号：CN1637097A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410097089.4
申请日：2003-02-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09D183/04 , H01L21/316
CPC classification number: H01L23/5329 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , Y10T428/31663 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
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公开(公告)号：CN1698017A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200480000498.6
申请日：2004-10-07
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种放射线固化性组合物、其保存方法、固化膜形成方法、图案形成方法、图案使用方法、电子元件及光波导。本发明的放射线固化性组合物含有(a)成分：硅氧烷树脂、(b)成分：光酸发生剂或光碱发生剂、(c)成分：能够溶解(a)成分的溶剂以及(d)成分：固化促进催化剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100491486C
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN03804816.7
申请日：2003-02-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09D183/02 , C09D183/04 , C09D5/25
CPC classification number: H01L23/5329 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , Y10T428/31663 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的相对电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
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公开(公告)号：CN1698018B
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN200480000499.0
申请日：2004-10-07
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明的放射线固化性组合物含有(a)成分：硅氧烷树脂、(b)成分：光酸发生剂或光碱发生剂、及(c)成分：可溶解(a)成分并且含有非质子型溶剂的溶剂。
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公开(公告)号：CN101307209B
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200810108406.6
申请日：2003-02-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09D183/04 , C09D7/00 , C09D5/25
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的相对电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
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公开(公告)号：CN101307209A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200810108406.6
申请日：2003-02-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09D183/04 , C09D7/00 , C09D5/25
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的相对电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
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公开(公告)号：CN101194187A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200680020396.X
申请日：2006-06-09
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 三菱电机株式会社
CPC classification number: G02B1/113
Abstract: 本发明提供一种防反射膜的形成方法，其具有同时进行在玻璃体表面上形成的包含防反射膜前体的涂膜的烧结处理和所述玻璃体的强化处理的工序。由此，能够以充分低的成本形成防反射膜。
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