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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1196004C
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN98809677.3
申请日：1998-10-01
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G02B6/4246 , G02B6/42 , G02B6/4214 , G02B6/43 , G02B2006/12104
Abstract: 用于将电路的I/O信号通过光发射/接收元件变换为光信号并经由光波导传输的光信息处理设备，其中简化了光波导和光发射/接收元件间的调准操作。此光信息处理设备包括上面形成有光波导(14)的波导基片(10)和与此光波导(14)相对地安装在此基片(10)上的电路基片(100)。在光波导(14)之下设有用来接收通过光波导(14)传输的光的光接收元件(101)，而电路基片(100)上的电路则与此光接收元件(101)相连。
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公开(公告)号：CN1272182A
公开(公告)日：2000-11-01
申请号：CN98809678.1
申请日：1998-10-01
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 小柳光正
CPC classification number: G02B6/4246 , G02B6/122 , G02B6/4214 , G02B2006/12104
Abstract: 易于制造内设有微反射镜以相对于基片的表面的上方反射和接收传输光的光波导的制造方法。此方法包括于基片(10)上形成表面上具有带斜侧面的凸部的包层(12)的第一工序,于此包层(12)的凸部斜侧面上形成反射膜(13)的第二工序,以及于此包层(12)的凸部斜侧面上形成光波导(14)的第三工序。所述凸部是由各向同性腐蚀工艺形成的。
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公开(公告)号：CN101410861A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200780010752.4
申请日：2007-03-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
Inventor： 本田裕
IPC: G06Q10/00
CPC classification number: G06Q40/08 , G06Q10/0635
Abstract: 提供可以获得与各种风险管理的观点相对应的支持信息的风险管理支持服务器。流程控制部(111)使客户机(4)显示用于选择对临时DB组(1300A)的支持信息进行分类的字段名的信息。客户机(4)将所选择的字段名通知给流程控制部(111)。流程控制部(111)按照所通知的字段名中的每个相同内容，将临时DB组(1300A)内的支持信息分类。流程控制部(111)使客户机(4)与各内容相对应地来显示支持信息。
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公开(公告)号：CN1208650C
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN98809678.1
申请日：1998-10-01
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 小柳光正
CPC classification number: G02B6/4246 , G02B6/122 , G02B6/4214 , G02B2006/12104
Abstract: 易于制造内设有微反射镜以相对于基片的表面的上方反射和接收传输光的光波导的制造方法。此方法包括于基片(10)上形成表面上具有带斜侧面的凸部的包层(12)的第一工序，于此包层(12)的凸部斜侧面上形成反射膜(13)的第二工序，以及于此包层(12)的凸部斜侧面上形成光波导(14)的第三工序。所述凸部是由各向同性腐蚀工艺形成的。
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公开(公告)号：CN1272181A
公开(公告)日：2000-11-01
申请号：CN98809677.3
申请日：1998-10-01
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G02B6/4246 , G02B6/42 , G02B6/4214 , G02B6/43 , G02B2006/12104
Abstract: 用于将电路的I/O信号通过光发射/接收元件变换为光信号并经由光波导传输的光信号处理设备,其中简化了光波导和光发射/接收元件间的调准操作。此光信息处理设备包括上面形成有光波导(14)的波导基片(10)和与此光波导(14)相对地安装在此基片(10)上的电路基片(100)。在光波导(14)之下设有用来接收通过光波导(14)传输的光的光接收元件(101),而电路基片(100)上的电路则与此光接收元件(101)相连。
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