公开(公告)号：CN1147640A

公开(公告)日：1997-04-16

申请号：CN96110858.4

申请日：1996-07-26

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 山岸智明 ,  佐々木范 ,  奈良茂男 ,  佐藤任廷 ,  林田茂 ,  田谷昌人

IPC: G02B1/04 ,  G02B6/10

CPC classification number: G02B6/1221 ,  C08G73/10 ,  C08G73/1064 ,  C08G73/1071 ,  G02F1/3616 ,  Y10T428/31721

Abstract: 满足下述要求当中的要求(a)、(b)和(c)的聚酰亚胺、满足要求(b)、(c)、(d)的聚酰亚胺和满足要求(a)、(b)、(c)、(d)的聚酰亚胺具有卓越的透明性、各向同性和抗断裂性能(在多层膜的形成过程中没有断裂生成，这样，多层膜的形成就比较容易，即，聚酰亚胺具有优良的加工性能)，并且能够赋予光学元件以卓越的光学特性。

公开(公告)号：CN1119678C

公开(公告)日：2003-08-27

申请号：CN96110858.4

申请日：1996-07-26

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 山岸智明 ,  佐佐木范 ,  奈良茂男 ,  佐藤任廷 ,  林田茂 ,  田谷昌人

IPC: G02B6/10 ,  G02B1/04

CPC classification number: G02B6/1221 ,  C08G73/10 ,  C08G73/1064 ,  C08G73/1071 ,  G02F1/3616 ,  Y10T428/31721

Abstract: 满足下述要求当中的要求(a)、(b)和(c)的聚酰亚胺、满足要求(b)、(c)、(d)的聚酰亚胺和满足要求(a)、(b)、(c)、(d)的聚酰亚胺具有卓越的透明性、各向同性和抗断裂性能(在多层膜的形成过程中没有断裂生成，这样，多层膜的形成就比较容易，即，聚酰亚胺具有优良的加工性能)，并且能够赋予光学元件以卓越的光学特性：(a)TE模和TM模的折射率差值为0.02或更小，(b)玻璃化温度(Tg)为250℃或更高，(c)在波长0.7至1.6μm处的光透射损失为1dB/cm或更少，和(d)氟含量为0-22.6%重量或更少。

公开(公告)号：CN102918084A

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN201180026708.9

申请日：2011-05-30

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 钟慧峰 ,  大川原敏一 ,  佐藤任廷 ,  铃木贤二

IPC: C08G73/10 ,  C08G18/65 ,  C08L47/00 ,  C08L79/08 ,  C09D5/25 ,  C09D109/00 ,  C09D179/08 ,  H01B3/30 ,  H01B7/02

CPC classification number: H01B3/306 ,  C08G18/345 ,  C08G18/6208 ,  C08G18/69 ,  C08G18/728 ,  C08G18/794 ,  C08G73/14 ,  C09D109/00 ,  C09D175/04 ,  C09D179/08 ,  C08L9/00

Abstract: 本发明的绝缘层的耐绝缘破坏性提高方法是提高设置在导体上的绝缘层的耐绝缘破坏性的方法，其特征在于，通过在导体上涂布含有选自下述第1组和第2组的至少一种改性聚酰胺酰亚胺树脂的电绝缘材料并烘烤而形成所述绝缘层。第1组：在至少一种聚丁二烯系树脂或其加氢物的存在下，使三羧酸酐或其衍生物与二异氰酸酯化合物或二氨基化合物反应而获得的改性聚酰胺酰亚胺树脂。第2组：将至少一种聚丁二烯系树脂或其加氢物与聚酰胺酰亚胺树脂混合而得到的改性聚酰胺酰亚胺树脂。