公开(公告)号：CN101416115B

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：CN200780012149.X

申请日：2007-04-12

申请人： 日本精工株式会社

发明人： 佐治伸仁

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70216

摘要： 本发明提供一种曝光装置，在通过使基板和掩模相对移动来进行图案曝光时，可对非曝光区域适当地遮光。在曝光区域的曝光中，通过对该曝光用的光EL横切遮光构件(20)并向上游侧移动，不管曝光区域个数，使用一个遮光构件(20)都可以避免非曝光区域的曝光。

公开(公告)号：CN101416115A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200780012149.X

申请日：2007-04-12

申请人： 日本精工株式会社

发明人： 佐治伸仁

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70216

摘要： 本发明提供一种曝光装置，在通过使基板和掩模相对移动来进行图案曝光时，可对非曝光区域适当地遮光。在曝光区域的曝光中，通过对该曝光用的光EL横切遮光构件(20)并向上游侧移动，不管曝光区域个数，使用一个遮光构件(20)都可以避免非曝光区域的曝光。

公开(公告)号：CN101410761A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200780010788.2

申请日：2007-05-28

申请人： 日本精工株式会社

发明人： 佐藤俊德 ,  佐治伸仁 ,  中村刚

IPC分类号： G03F7/22

CPC分类号： G03F7/70791

摘要： 本发明提供一种用于曝光装置的支承装置(40)，该支承装置(40)的支承面(42a)的排气槽(42b)以不与扫描方向平行的方式相对于曝光区域倾斜。因此，平行光束(20)不会受排气槽(42b)反射后的返回光的影响成了条纹状并出现在工件基板(1A)上，从而可进行稳定的均匀曝光。