公开(公告)号：CN102412801A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201110264620.2

申请日：2011-09-05

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 市川了一 ,  天野芳明 ,  龟泽健二

IPC: H03H3/02 ,  H03H9/02 ,  H03H9/19

CPC classification number: H03H9/02086 ,  H01L2224/97 ,  H03H3/02 ,  H03H9/1014 ,  Y10T29/42

Abstract: 本发明提供一种使用可以恰当地形成贯通孔的压电装置的制造方法。制造压电装置的制造方法包含：基部晶片由玻璃或压电材料构成，在基部晶片的第1面和第1面的相反侧的第2面上形成耐蚀膜的耐蚀膜形成工序(S121)；在耐蚀膜上形成光致抗蚀剂并进行曝光后，对与贯通孔对应的耐蚀膜进行金属蚀刻的金属蚀刻工序(S121、S122)；在金属蚀刻工序之后，将玻璃或压电材料浸在蚀刻液中从基部晶片的第1面和第2面进行湿刻，湿刻至玻璃或压电材料马上就要贯通的程度的湿刻工序(S123)以及在第2面上形成有耐蚀膜的状态下，从第2面侧吹付研磨材料的喷砂工序(S124)。