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公开(公告)号:CN101042490A
公开(公告)日:2007-09-26
申请号:CN200710088713.8
申请日:2007-03-20
Applicant: 日本电气株式会社 , NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1333 , G09F9/00 , H04M1/02
CPC classification number: G02F1/133509 , G02F1/134363 , G02F2201/124
Abstract: 在显示装置的显示面板中,沿着x轴方向以及y轴方向周期排列有多个像素,由于光在各像素中开口部分以外的部分被遮断,所以,显示面板具有二维栅格结构。像素是矩形,x方向的长边长度Px比y方向的短边长度Py大。在显示面板上放置有将透明区域和不透明区域以一维方式周期排列而构成的遮板,遮板所具有的一维周期方向与x轴所成角度为45度或更小,优选为10度或更小。由此,可得到方向性高、降低莫尔条纹且具有高透过率的光学元件。还可以实现组装所述光学元件而具有出色显示质量的显示装置。
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公开(公告)号:CN101846860A
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN201010130315.X
申请日:2010-03-05
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1362 , G09G3/36
Abstract: 提供了具有高光利用效率的液晶显示元件和使用此液晶显示元件的显示设备。在本发明的液晶显示元件中,至少包括被层压在一起的多个像素电极(31)和(32)和切换元件(39)的第一基板(21),和至少包括被层压在一起的公共电极(33)和着色层(62)的第二基板跨过液晶层(12)相互面对。在第一基板(21)上多条栅极线(48)被平行地排列并且被均匀地间隔,在与栅极线(48)垂直的方向中多条数据线被平行地排列并且被均匀地间隔,并且点是由通过栅极线(48)和数据线围绕的区域形成。此外,点包括至少具有被设置在栅极线(48)和数据线的交叉处的切换元件(39)和经由切换元件(39)设置的第一像素电极(31)的第一开口(25),和至少具有第二像素电极(32)和控制电极(34)的第二开口(26)。
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公开(公告)号:CN101162307A
公开(公告)日:2008-04-16
申请号:CN200710162468.0
申请日:2007-10-15
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/133 , G02F1/1362 , G09F9/00 , G09G3/36 , G09G3/20
CPC classification number: G09G3/3648 , G02F1/134336 , G02F1/136286 , G09G3/18 , G09G2300/0426 , G09G2300/043 , G09G2310/0232 , G09G2310/0267 , G09G2320/0214
Abstract: 本发明提供一种能够容易实现任意形状的面显示装置的显示装置。将包括构成扫描电路的一段的电路和与所述扫描电路的输出连接的像素电路的显示装置要素以一笔画成的要领设置在显示装置基板(208)上。
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公开(公告)号:CN101556398A
公开(公告)日:2009-10-14
申请号:CN200910132579.6
申请日:2009-04-07
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/133 , G02F1/1333 , C03C15/00
CPC classification number: G02F1/133526 , G02B3/0012 , G02B3/005 , G02B27/2214
Abstract: 本发明涉及液晶显示面板及其制造方法。本发明提供一种能够在低成本和良好产量下制造具有以合成一体的方式形成的柱镜光栅式透镜和基板的液晶显示面板的结构和制造方法。当通过使用湿法蚀刻方法而将柱镜光栅式透镜形成到母CF基板上时,基板被浸入蚀刻溶液中,同时以如此方式被立起,即,使得掩模的狭缝开口部的长度方向与竖直方向对准,并且不具有任何掩模图案的区域到达底侧上。由此,能够沿着柱镜光栅式透镜形状朝向下侧排出由于玻璃杂质而产生的残余以将其排放到平坦区域,这使得能够抑制经蚀刻处理的形状的劣化。
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公开(公告)号:CN102043291A
公开(公告)日:2011-05-04
申请号:CN201010516549.8
申请日:2010-10-20
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1347 , G02F1/135 , G02F1/133
CPC classification number: G02F1/133362 , G02F1/13718
Abstract: 本发明提供一种显示介质的擦除装置和方法以及擦除信号设置方法,其中擦除操作需要的功耗得到抑制,而这并不损害光学写入型显示介质的便携性。在第一显示功能层中,当在一对电极之间施加擦除电压时被施加到两个胆甾型液晶层的电压分别地被定义为V1、V2,并且使得胆甾型液晶层改变为垂面排列的阈值电压分别地被定义为Vth1、Vth2。在该情形中,在仅仅根据胆甾型液晶层的每一个电阻和光电导层的电阻来确定电压V1和V2,即,从施加擦除电压的点已经经过充分时间的状态中,V1≥Vth1和V2≥Vth2适用。
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公开(公告)号:CN101944316A
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN201010273134.2
申请日:2007-10-15
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G09G3/18
CPC classification number: G09G3/3648 , G02F1/134336 , G02F1/136286 , G09G3/18 , G09G2300/0426 , G09G2300/043 , G09G2310/0232 , G09G2310/0267 , G09G2320/0214
Abstract: 本发明提供一种能够容易实现任意形状的面显示装置的显示装置。将包括构成扫描电路的一段的电路和与所述扫描电路的输出连接的像素电路的显示装置要素以一笔画成的要领设置在显示装置基板(208)上。
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公开(公告)号:CN1525210A
公开(公告)日:2004-09-01
申请号:CN200410007024.6
申请日:2004-02-25
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02B27/22
CPC classification number: G02B27/2228 , H04N13/31
Abstract: 一种三维图像显示装置具有显示面板。所述显示面板具有多个用于右眼的像素和用于左眼的像素,并且从用于右眼的像素射出的光线被入射到观看者的右眼,而从用于左眼的像素射出的光线被入射到左眼。然后,当显示面板与观看者之间的距离被设置为D(毫米)的时候,所述显示面板的显示平面上的、垂直方向和水平方向中的至少一个的清晰度X(dpi)被如下列表达式中那样设定:x≥25.4/Dxtan(1’)。
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公开(公告)号:CN1356581A
公开(公告)日:2002-07-03
申请号:CN01139621.0
申请日:2001-11-26
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/09 , H05B33/00
CPC classification number: G02B6/0038 , G02B6/0046 , G02B6/005 , G02B6/0055 , G02F2001/133616
Abstract: 发光器件(110)包括(a)作为光源的电致发光器件(100),和(b)将从电致发光器件(100)发出的光引入液晶显示装置的导光体(112)。电致发光器件(100)在导光体(112)的端面上形成。该发光器件可以用作在液晶显示装置中的背光光源。
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公开(公告)号:CN100380436C
公开(公告)日:2008-04-09
申请号:CN200410095096.0
申请日:2004-11-23
Applicant: 日本电气株式会社
CPC classification number: G06F3/147 , G06F3/1431
Abstract: 在其中组合了具有两个屏幕的显示单元的显示系统中,抑制了显示系统的增大和成本的增加。设置有:形成在一个绝缘基板上的一个显示单元;形成在另一绝缘基板上的另一显示单元;以及用于输出显示驱动信号的电路模块。将所述另一显示单元的尺寸设置为比所述一个显示单元的尺寸小。将所述电路模块形成在所述一个绝缘基板上,并分别向所述一个显示单元和所述另一显示单元输出所述显示驱动信号。
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公开(公告)号:CN1459653A
公开(公告)日:2003-12-03
申请号:CN03110142.9
申请日:2003-04-11
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B3/00 , G03F7/26
CPC classification number: G02B3/0056 , B81B2207/056 , B81C1/00031 , B81C2201/0133 , B81C2201/0142 , C03C15/00 , C03C17/34 , C03C2204/08 , C03C2218/34 , G02B3/0012 , G02F1/133526 , Y10T428/131 , Y10T428/249969 , Y10T428/315
Abstract: 在用于在含有蚀刻控制成分的加工件中形成精细结构的制造方法中,使用各向同性刻蚀工艺,将具有孔口(36)的掩模加到加工件(30)上,且用蚀刻溶液蚀刻加工件,从而在加工件的表面内形成相应于孔口形状的凹槽(40)。由于在各向同性刻蚀工艺期间蚀刻控制成分从凹槽内的蚀刻溶液(38)中的加工件中洗提出来,所述加工件的蚀刻停止。
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