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发明公开
等离子体处理装置无效

公开(公告)号：CN110278650A

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201910188057.1

申请日：2019-03-13

Applicant: 日本电产株式会社

Inventor： 高桥大辅 , 塚本千里

IPC: H05H1/24

Abstract: 本发明提供等离子体处理装置。该等离子体处理装置具有：施加电极部，其被施加规定的电压；以及电介质，其配置于接地的工件与所述施加电极部之间，所述施加电极部在内部具有供处理气体流动的气体导通部，所述气体导通部与所述电介质和所述工件之间的间隙连通。

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