具有高折射率的介电膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1459036A

    公开(公告)日:2003-11-26

    申请号:CN02800717.4

    申请日:2002-03-05

    CPC classification number: G02B5/285 C23C14/083 C23C14/352 Y10T428/31851

    Abstract: 一种具有高的折射率的介电膜,其特征在于:它包括一种包含一种氧化钛(TiOx,其中1≤x≤2)作为主要组份和另一种金属氧化物(MOw,其中M是一种金属,例如铌或钽,并且1≤w)作为添加剂组份,并且不含有圆柱形结构的无定形材料。虽然甚至是薄膜形式的氧化钛也有结晶的倾向,然而上述介电膜却以无定形的状态存在,因为加入的上述另一种金属氧化物干扰氧化钛的晶体生长。这种介电膜具有高的折射率,其光学特性随时间的变化较少,并且具有较小的膜张力,因此可以作为一种光学多层膜的组成材料而稳定地使用。

Patent Agency Ranking