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公开(公告)号:CN104584228A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201280075389.5
申请日:2012-08-23
Applicant: 学校法人中部大学 , 国立大学法人北海道大学 , 国立大学法人大阪大学 , 日新电机株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/78687 , H01L29/1033 , H01L29/1606 , H01L29/42384 , H01L29/66045 , H01L29/66742 , H01L29/778 , H01L29/7788 , H01L29/7789 , H01L29/78603 , H01L29/78684 , H01L29/78696
Abstract: 薄膜晶体管10具备硅基板1、沟道层2、源极电极3及漏极电极4。沟道层2、源极电极3及漏极电极4配置在硅基板1的一主面上。沟道层2包含多个碳纳米墙薄膜21~25,多个碳纳米墙薄膜21~25并列配置在源极电极3与漏极电极4之间,多个碳纳米墙薄膜21~25的其中一端接触源极电极3,多个碳纳米墙薄膜21~25的另一端接触漏极电极4。绝缘膜及栅极电极配置在硅基板1的背面侧。
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公开(公告)号:CN103648978A
公开(公告)日:2014-03-19
申请号:CN201280032880.X
申请日:2012-06-26
Applicant: 学校法人中部大学 , 国立大学法人北海道大学 , 国立大学法人大阪大学 , 日新电机株式会社
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/0293 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/18 , Y10T428/24612
Abstract: 碳纳米墙排列体(10)具备基板(1)及碳纳米墙(2~9)。基板(1)包含硅。并且,基板(1)包含凸部(11)及凹部(12)。凸部(11)以及凹部(12)沿着方向DR1而形成在基板1的一个表面。凸部(11)以及凹部(12)是在垂直于方向DR1的方向DR2上交替地形成。凸部(11)在方向DR2上具有0.1μm~0.5μm的长度,凹部(12)在方向DR2上具有0.6μm~1.5μm的长度。而且,凸部(11)的高度为0.3μm~0.6μm。碳纳米墙(2~9)各自沿着基板(1)的凸部(11)的长度方向(=方向DR1)而形成在凸部(11)上。
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公开(公告)号:CN103648978B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201280032880.X
申请日:2012-06-26
Applicant: 学校法人中部大学 , 国立大学法人北海道大学 , 国立大学法人大阪大学 , 日新电机株式会社
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/0293 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/18 , Y10T428/24612
Abstract: 碳纳米墙排列体(10)具备基板(1)及碳纳米墙(2~9)。基板(1)包含硅。并且,基板(1)包含凸部(11)及凹部(12)。凸部(11)以及凹部(12)沿着方向DR1而形成在基板1的一个表面。凸部(11)以及凹部(12)是在垂直于方向DR1的方向DR2上交替地形成。凸部(11)在方向DR2上具有0.1μm~0.5μm的长度,凹部(12)在方向DR2上具有0.6μm~1.5μm的长度。而且,凸部(11)的高度为0.3μm~0.6μm。碳纳米墙(2~9)各自沿着基板(1)的凸部(11)的长度方向(=方向DR1)而形成在凸部(11)上。
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