公开(公告)号：CN118773576A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202310553562.8

申请日：2023-05-17

申请人： 日扬科技股份有限公司

发明人： 陈建勋 ,  孙世源 ,  吴旻叡 ,  方志强

IPC分类号： C23C16/44 ,  H01L21/67 ,  C23C14/56

摘要： 本发明涉及一种用于真空环境之防沉积物件包含主体结构以及氟素镀膜层，其中氟素镀膜层覆盖于主体结构之至少一表面上，其中防沉积物件于一真空环境中接触一制程设备进行一制程时所使用或排放之一制程物质，且氟素镀膜层相较于主体结构之表面对制程物质具有较高之水滴接触角，氟素镀膜层相较于主体结构之表面具有近似或较高之硬度，并且氟素镀膜层相较于主体结构之表面具有较低之粗糙度。本发明之用于真空环境之防沉积物件可防止真空部件受到微粒等制程物质撞击而刮伤，还可达到自清洁及易清洁之效果，借以减少频繁维修的资金和人力。

公开(公告)号：CN118773606A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202311541570.7

申请日：2023-11-20

申请人： 日扬科技股份有限公司

发明人： 陈建勋 ,  孙世源 ,  吴旻叡 ,  方志强

IPC分类号： C23C26/00 ,  C09D127/18 ,  C09D127/12 ,  C09D183/04

摘要： 本发明涉及一种防沉积物件包含主体结构以及氟素镀膜层，其中氟素镀膜层覆盖于主体结构之至少一表面上，其中防沉积物件于一环境中接触一物质，且氟素镀膜层相较于主体结构之表面对上述之物质具有较高之水滴接触角，氟素镀膜层相较于主体结构之表面具有近似或较高之硬度，并且氟素镀膜层相较于主体结构之表面具有较低之粗糙度。本发明之防沉积物件可防止因受到微粒等物质撞击而刮伤，还可达到自清洁及易清洁之效果，借以减少频繁维修的资金和人力。

公开(公告)号：CN221051985U

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202321184664.9

申请日：2023-05-17

申请人： 日扬科技股份有限公司

发明人： 陈建勋 ,  孙世源 ,  吴旻叡 ,  方志强

IPC分类号： C23C16/44 ,  H01L21/67 ,  C23C14/56

摘要： 本实用新型涉及一种用于真空环境之防沉积物件包含主体结构以及氟素镀膜层，其中氟素镀膜层覆盖于主体结构之至少一表面上，其中防沉积物件于一真空环境中接触一制程设备进行一制程时所使用或排放之一制程物质，且氟素镀膜层相较于主体结构之表面对制程物质具有较高之水滴接触角，氟素镀膜层相较于主体结构之表面具有近似或较高之硬度，并且氟素镀膜层相较于主体结构之表面具有较低之粗糙度。本实用新型之用于真空环境之防沉积物件借由改进结构可防止真空部件受到微粒等制程物质撞击而刮伤，还可达到自清洁及易清洁之效果，借以减少频繁维修的资金和人力。