公开(公告)号：CN115136074A

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN202180015688.9

申请日：2021-02-22

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 德永光 ,  仓本悠太郎 ,  中岛诚 ,  滨田聪志 ,  三浦克也

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

Abstract: 提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含聚合物(X)、以及溶剂，上述聚合物(X)包含具有甲氧基甲基和除甲氧基甲基以外的ROCH2‑基(R为一价有机基、氢原子或它们的混合)的相同或不同的多个结构单元、和将上述多个结构单元连接的连接基。

公开(公告)号：CN113227214A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980086354.3

申请日：2019-12-25

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 柴山亘 ,  仓本悠太郎 ,  武田谕 ,  志垣修平 ,  石桥谦 ,  中岛诚

IPC: C08G77/22 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  C07F7/08 ,  C07F7/10 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题是提供适合作为能够形成兼具良好的EUV抗蚀剂密合性、和由于氟系蚀刻速率也高因此具有的良好的蚀刻加工性的含有Si的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含例如式(E1)所示的聚合物、和溶剂。