-
公开(公告)号：CN119013627A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202380033692.7
申请日：2023-04-21
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其特征在于，含有聚合物和溶剂、所述聚合物具有下述式(1)所示的重复单元(1)和所述重复单元(1)以外的重复单元(2)，包含所述聚合物的聚合物溶液中的所述聚合物的平均粒径为50nm以下。#imgabs0#(式(1)中，R1表示氢原子、甲基、或卤素原子，R2表示碳原子数3～6的3价的烃基。其中，包含R2的内酯结构为5元环或6元环。)
Search Results
1
records
(took 0.024 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
