公开(公告)号：CN1146764A

公开(公告)日：1997-04-02

申请号：CN95192771.X

申请日：1995-04-25

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 秋山茂明 ,  武山敏明 ,  渡边淳一 ,  中岛康之 ,  铃木博之 ,  安见由章 ,  菊池隆正 ,  大宅博司 ,  笹部繁 ,  西冈正宪 ,  古里孝

IPC: C07D231/14 ,  A01N43/56 ,  A01N43/78 ,  C07D277/56

CPC classification number: C07D277/56 ,  A01N43/56 ,  A01N43/78 ,  A01N47/24 ,  C07D231/14

Abstract: 一种植物病害防除剂，它含有由通式(1)表示化合物的1种以上作为有效成分，A-COOR1[1]另外，在式[1]中的A-1的化合物中，R3是卤素原子的化合物也属于本发明。

公开(公告)号：CN1273870C

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：CN02819915.4

申请日：2002-10-04

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 竹井敏 ,  安见由章 ,  水泽贤一

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08L63/00 ,  C08G59/1455 ,  C08G59/18 ,  C08G59/3254 ,  C08G2650/56 ,  C08L33/00 ,  C08L71/00 ,  C09D161/06 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31855 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

Abstract: 本发明涉及在半导体器件制造的光刻工艺中使用的形成防反射膜的组合物，该组合物含有具有5000或其以下重均分子量的聚合物(A)，和具有20000或其以上的重均分子量的聚合物(B)。该组合物提供在有孔和沟槽的凹凸不平的基板上的段差被覆性优异，防反射光效果高，而且不发生与抗蚀剂层的混和，可以得到优异的抗蚀剂图案，具有比抗蚀剂更大的干蚀刻速度的光刻用防反射膜。

公开(公告)号：CN1564968A

公开(公告)日：2005-01-12

申请号：CN02819915.4

申请日：2002-10-04

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 竹井敏 ,  安见由章 ,  水泽贤一

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  C08G59/14

CPC classification number: C08L63/00 ,  C08G59/1455 ,  C08G59/18 ,  C08G59/3254 ,  C08G2650/56 ,  C08L33/00 ,  C08L71/00 ,  C09D161/06 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31855 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

Abstract: 本发明涉及在半导体器件制造的光刻工艺中使用的形成防反射膜的组合物，该组合物含有具有5000或其以下重均分子量的聚合物(A)，和具有20000或其以上的重均分子量的聚合物(B)。该组合物提供在有孔和沟槽的凹凸不平的基板上的段差被覆性优异，防反射光效果高，而且不发生与抗蚀剂层的混和，可以得到优异的抗蚀剂图案，具有比抗蚀剂更大的干蚀刻速度的光刻用防反射膜。