涂布装置和涂布膜的制造方法

    公开(公告)号:CN108686883B

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201810171121.0

    申请日:2018-03-01

    Abstract: 本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。该涂布装置包括:涂布辊;以及供给部,其具有刮蹭涂布液的第1刮板构件和抑制所述涂布液的泄漏的第2刮板构件,并向所述涂布辊供给所述涂布液,在沿着所述涂布辊的轴向观察时,自所述第2刮板构件的基端至顶端的长度构成为,比沿着假设未压靠于所述涂布辊的状态下的所述第2刮板构件的突出方向延伸的距离上的所述第2刮板构件的所述基端与所述涂布辊之间的距离长0.1mm~5mm。

    涂布装置和涂布膜的制造方法

    公开(公告)号:CN108686883A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810171121.0

    申请日:2018-03-01

    Abstract: 本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。该涂布装置包括:涂布辊;以及供给部,其具有刮蹭涂布液的第1刮板构件和抑制所述涂布液的泄漏的第2刮板构件,并向所述涂布辊供给所述涂布液,在沿着所述涂布辊的轴向观察时,自所述第2刮板构件的基端至顶端的长度构成为,比沿着假设未压靠于所述涂布辊的状态下的所述第2刮板构件的突出方向延伸的距离上的所述第2刮板构件的所述基端与所述涂布辊之间的距离长0.1mm~5mm。

    基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法

    公开(公告)号:CN108072666B

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN201710803795.3

    申请日:2017-09-08

    Inventor: 道平创 近藤信

    Abstract: 本发明提供一种基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法。基准器构成为,具备具有槽部的非透光性的第一块体、以及层叠于所述第一块体的透光性的第二块体,由分光干涉式测量装置经由所述第二块体向所述第一块体的所述槽部照射光,由来自所述第二块体的靠所述第一块体侧的面的反射光和来自所述槽部的底面的反射光形成与所述槽部的深度对应的规定的干涉光。

    基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法

    公开(公告)号:CN108072666A

    公开(公告)日:2018-05-25

    申请号:CN201710803795.3

    申请日:2017-09-08

    Inventor: 道平创 近藤信

    Abstract: 本发明提供一种基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法。基准器构成为,具备具有槽部的非透光性的第一块体、以及层叠于所述第一块体的透光性的第二块体,由分光干涉式测量装置经由所述第二块体向所述第一块体的所述槽部照射光,由来自所述第二块体的靠所述第一块体侧的面的反射光和来自所述槽部的底面的反射光形成与所述槽部的深度对应的规定的干涉光。

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