涂布装置和涂布膜的制造方法

    公开(公告)号:CN108686883B

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201810171121.0

    申请日:2018-03-01

    Abstract: 本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。该涂布装置包括:涂布辊;以及供给部,其具有刮蹭涂布液的第1刮板构件和抑制所述涂布液的泄漏的第2刮板构件,并向所述涂布辊供给所述涂布液,在沿着所述涂布辊的轴向观察时,自所述第2刮板构件的基端至顶端的长度构成为,比沿着假设未压靠于所述涂布辊的状态下的所述第2刮板构件的突出方向延伸的距离上的所述第2刮板构件的所述基端与所述涂布辊之间的距离长0.1mm~5mm。

    等离子体CVD装置及膜的制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118715339A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202380022149.7

    申请日:2023-01-19

    Abstract: 一种等离子体CVD装置(1),其具备一对成膜辊(2A、2B)、一对磁场产生部件(3A、3B)、一对位置调整部件(4A、4B)、以及气体供给部(5)。一对成膜辊(2A、2B)相互分离地对置配置。一对磁场产生部件(3A、3B)配置于一对成膜辊(2A、2B)各自的内部。一对磁场产生部件(3A、3B)使一对成膜辊(2A、2B)之间产生磁场。一对位置调整部件(4A、4B)分别调整一对磁场产生部件(3A、3B)的位置。气体供给部(5)向一对成膜辊(2A、2B)之间供给成膜气体。一对位置调整部件(4A、4B)构成为调整一对磁场产生部件(3A、3B)的位置,以使一磁场产生部件(3A、3B)和气体供给部之间的距离、与另一磁场产生部件(3A、3B)和气体供给部之间的距离相同。

    涂布装置和涂布膜的制造方法

    公开(公告)号:CN108686883A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810171121.0

    申请日:2018-03-01

    Abstract: 本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。该涂布装置包括:涂布辊;以及供给部,其具有刮蹭涂布液的第1刮板构件和抑制所述涂布液的泄漏的第2刮板构件,并向所述涂布辊供给所述涂布液,在沿着所述涂布辊的轴向观察时,自所述第2刮板构件的基端至顶端的长度构成为,比沿着假设未压靠于所述涂布辊的状态下的所述第2刮板构件的突出方向延伸的距离上的所述第2刮板构件的所述基端与所述涂布辊之间的距离长0.1mm~5mm。

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