粘合带
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104910824A

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201510106623.1

    申请日:2015-03-11

    Abstract: 本申请发明的目的在于提供粘合带,所述粘合带使用成为REACH的管制对象的邻苯二甲酸双(2-乙基己酯)(DOP)、邻苯二甲酸二丁酯(DBP)的替代化合物作为增塑剂,且粘合性和退卷性优异。本申请发明的粘合带的特征在于,在包含10~40重量%对苯二甲酸双(2-乙基己酯)的聚氯乙烯系基材的单面具有粘合剂层。本申请发明的粘合带优选的是,拉伸速度0.3m/min下的退卷力为0.4N/20mm以下,且拉伸速度30m/min下的退卷力为1.2N/20mm以下。

    光半导体元件密封用片
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115397870B

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202180025748.5

    申请日:2021-03-12

    Abstract: 提供处理容易、能够以简易的工序且短时间对光半导体元件进行密封的光半导体元件密封用片。光半导体元件密封用片1为用于对配置于基板上的1个以上的光半导体元件进行密封的片,所述光半导体元件密封用片1具备:用于对前述光半导体元件进行密封的密封树脂层10、和贴附于密封树脂层10的剥离片20,密封树脂层10含有丙烯酸系树脂。光半导体元件密封用片1可以在密封树脂层10的与贴附有剥离片20的面10a相反侧的面10b具备基材层30。

    粘合带
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104910824B

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201510106623.1

    申请日:2015-03-11

    Abstract: 本申请发明的目的在于提供粘合带,所述粘合带使用成为REACH的管制对象的邻苯二甲酸双(2‑乙基己酯)(DOP)、邻苯二甲酸二丁酯(DBP)的替代化合物作为增塑剂,且粘合性和退卷性优异。本申请发明的粘合带的特征在于,在包含10~40重量%对苯二甲酸双(2‑乙基己酯)的聚氯乙烯系基材的单面具有粘合剂层。本申请发明的粘合带优选的是,拉伸速度0.3m/min下的退卷力为0.4N/20mm以下,且拉伸速度30m/min下的退卷力为1.2N/20mm以下。

    光半导体元件密封用片
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115397870A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202180025748.5

    申请日:2021-03-12

    Abstract: 提供处理容易、能够以简易的工序且短时间对光半导体元件进行密封的光半导体元件密封用片。光半导体元件密封用片1为用于对配置于基板上的1个以上的光半导体元件进行密封的片,所述光半导体元件密封用片1具备:用于对前述光半导体元件进行密封的密封树脂层10、和贴附于密封树脂层10的剥离片20,密封树脂层10含有丙烯酸系树脂。光半导体元件密封用片1可以在密封树脂层10的与贴附有剥离片20的面10a相反侧的面10b具备基材层30。

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