面向ATE测试设备的集成电路测试激励生成方法

    公开(公告)号:CN114236359B

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202111568525.1

    申请日:2021-12-21

    Abstract: 本发明公开一种面向ATE测试设备的集成电路测试激励生成方法,包括以下步骤:步骤一、构建全片设计模型,步骤二、构建模拟验证环境,步骤三、编写测试文件,步骤四、按照四层结构、在不同验证平台、基于行为级进行仿真生成不同层次的测试激励,步骤五、融合形成完整测试激励,将在不同验证平台上生成的测试激励,在应用层框架的基础上,根据调用及层级关系,融合形成一个完整的测试激励。本发明可以降低测试激励生成环境构建的难度和复杂度,提高测试激励环境构建的兼容性和适应性,降低测试激励生成时间,提高测试激励生成效率,提高测试激励文件内信息的直观性和可读性。

    面向ATE测试设备的新型集成电路测试激励生成方法

    公开(公告)号:CN114236359A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111568525.1

    申请日:2021-12-21

    Abstract: 本发明公开一种面向ATE测试设备的新型集成电路测试激励生成方法,包括以下步骤:步骤一、构建全片设计模型,步骤二、构建模拟验证环境,步骤三、编写测试文件,步骤四、按照四层结构、在不同验证平台、基于行为级进行仿真生成不同层次的测试激励,步骤五、融合形成完整测试激励,将在不同验证平台上生成的测试激励,在应用层框架的基础上,根据调用及层级关系,融合形成一个完整的测试激励。本发明可以降低测试激励生成环境构建的难度和复杂度,提高测试激励环境构建的兼容性和适应性,降低测试激励生成时间,提高测试激励生成效率,提高测试激励文件内信息的直观性和可读性。

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