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公开(公告)号：CN111724816B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN201910213412.6
申请日：2019-03-20
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明公开了一种在衬底上形成图案的方法，包括如下步骤：(1)提供一透光载体，在透光载体的表面铺设固定带；(2)将一衬底的第一表面固定在固定带上；(3)在衬底的第二表面附着一光刻胶层，第一表面与第一表面相对；(4)自透光载体至光刻胶层的方向进行曝光，从而在光刻胶层上形成保留区域和可去除区域；(5)显影光刻胶层从而除去可去除区域，光刻胶层的保留区域构成待光刻图案；(6)蚀刻衬底的第二表面以除去部分衬底材料和光刻胶材料，从而形成光刻图案。该在衬底上形成图案的方法利用光的边界效应限定出需要刻蚀的图案的边界范围，简化了其制造过程且降低了成本。
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公开(公告)号：CN115985348A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202111195677.1
申请日：2021-10-14
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 一种形成热辅助磁头的方法，用于光源单元和磁头滑块之间的连接，所述方法包括：提供一光源单元，所述光源单元的连接表面上具有第一连接层；提供一磁头滑块，所述磁头滑块的预定表面上形成凹陷，所述凹陷在所述预定表面上的各角落分别形成凹陷顶面，所述凹陷上形成第二连接层；对准所述光源单元和所述磁头滑块，且所述光源单元的连接表面的各角落承载在所述凹陷的所述凹陷顶面上；以及在所述第一连接层和所述第二连接层之间进行焊接以形成焊接合金。本发明可保证光源单元和磁头滑块的稳定承载，同时减少光源单元和磁头滑块除焊接区外的边缘处的接触面积，从而更好地控制边缘处的接触平整度，进而改善焊接的可靠性，降低不良率，提升磁头及硬盘的性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101614955A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200810129359.3
申请日：2008-06-27
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明公开了一种在衬底上形成多阶表面的蚀刻方法，包括：(1)在衬底的预定表面上涂覆第一光刻胶层；(2)在第一光刻胶层上涂覆第二光刻胶层，第二光刻胶层具有与第一光刻胶层相反的特性；(3)通过一第一掩模曝光第二光刻胶层从而形成第一可去除区域；(4)显影第二光刻胶层从而除去第一可去除区域；(5)通过一第二掩模曝光第一光刻胶层从而在第一光刻胶层中形成包含在第一可去除区域内的第二可去除区域；(6)显影第一光刻胶层从而除去第二可去除区域，第一光刻胶层和第二光刻胶层保留的区域构成多阶图案；及(7)蚀刻衬底的预定表面和多阶图案从而在衬底上形成多阶表面。本发明还公开了一种用于形成磁头空气承载面特貌的蚀刻方法。
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公开(公告)号：CN101562017A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200810093390.6
申请日：2008-04-16
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 一种方法，用于在磁头衬底上形成空气承载面的过程中防止形成栅栏体突起，该方法包括如下步骤：(a)提供其上覆盖光致蚀刻层的磁头衬底，光致蚀刻层具有多个形成于其上的沟渠，该多个沟渠共同界定了空气承载表面图样，该多个沟渠中的每一个具有至少一个非垂直的侧壁，至少一个非垂直侧壁包括与磁头衬底邻接的Z字形边缘；(b)借助氧离子而蚀刻光致蚀刻层，从而将Z字形边缘修整为平直边缘，并且将至少一个非垂直侧壁修整为垂直侧壁；及(c)对从沟渠中暴露出来的磁头衬底进行蚀刻，从而使磁头衬底上形成没有栅栏体突起的空气承载面。
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公开(公告)号：CN115620754A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202110800205.8
申请日：2021-07-15
Applicant: 新科实业有限公司
IPC: G11B5/127
Abstract: 一种形成热辅助磁头的方法，用于光源单元和磁头滑块之间的连接，所述方法包括：提供一光源单元，所述光源单元的连接表面上具有第一连接层；提供一磁头滑块，所述磁头滑块的预定表面上形成凹陷；配置所述第一连接层和所述第二连接层的尺寸，控制所述第二连接层的熔融体积不大于所述第一连接层的过剩体积，其中所述第一连接层的过剩体积与所述第一连接层和所述第二连接层之间的面积差以及所述第一连接层的高度相关；以及所述第一连接层和所述第二连接层之间进行焊接以形成焊接合金。本发明可减少甚至避免在磁头滑块表面上形成多余的焊球，从而降低焊球跌落至硬盘表面的风险，进而提升磁头及硬盘的可靠性。
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公开(公告)号：CN111724816A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201910213412.6
申请日：2019-03-20
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明公开了一种在衬底上形成图案的方法，包括如下步骤：(1)提供一透光载体，在透光载体的表面铺设固定带；(2)将一衬底的第一表面固定在固定带上；(3)在衬底的第二表面附着一光刻胶层，第一表面与第一表面相对；(4)自透光载体至光刻胶层的方向进行曝光，从而在光刻胶层上形成保留区域和可去除区域；(5)显影光刻胶层从而除去可去除区域，光刻胶层的保留区域构成待光刻图案；(6)蚀刻衬底的第二表面以除去部分衬底材料和光刻胶材料，从而形成光刻图案。该在衬底上形成图案的方法利用光的边界效应限定出需要刻蚀的图案的边界范围，简化了其制造过程且降低了成本。
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公开(公告)号：CN101562017B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810093390.6
申请日：2008-04-16
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 一种用于在磁头衬底上形成空气承载面的过程中防止形成栅栏体突起的方法，该方法包括如下步骤：(a)提供其上覆盖光致蚀刻层的磁头衬底，光致蚀刻层具有多个形成于其上的沟渠，该多个沟渠共同界定了空气承载表面图样，该多个沟渠中的每一个具有至少一个非垂直的侧壁，至少一个非垂直侧壁包括与磁头衬底邻接的Z字形边缘；(b)借助氧离子而蚀刻光致蚀刻层，从而将Z字形边缘修整为平直边缘，并且将至少一个非垂直侧壁修整为垂直侧壁；及(c)对从沟渠中暴露出来的磁头衬底进行蚀刻，从而使磁头衬底上形成没有栅栏体突起的空气承载面。
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