滚筒研磨装置
    1.
    发明公开
    滚筒研磨装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN113319728A

    公开(公告)日:2021-08-31

    申请号:CN202110196326.6

    申请日:2021-02-22

    Abstract: 一个方式的滚筒研磨装置具备滚筒槽及倾动机构。滚筒槽包括具有中心轴线的筒状的固定槽与设置为覆盖固定槽的底部且能够绕中心轴线旋转的旋转盘。倾动机构具有沿水平方向延伸的倾动轴,且使滚筒槽绕倾动轴倾动。从与倾动轴的延伸方向平行的方向观察,倾动轴配置为比与倾动轴平行地延伸且通过滚筒槽的重心的重心线接近固定槽的上缘部。

    滚磨方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104669097A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201410687166.5

    申请日:2014-11-25

    Abstract: 本发明提供一种滚磨方法。将含有被加工物以及研磨介质的块体装入滚筒槽而进行滚磨。通过将上述研磨介质形成为含有树脂的结构,从而在研磨被加工物的同时,使研磨介质所含有的树脂成分附着于被加工物的表面,而形成极其薄的树脂的皮膜。通过该滚磨方法,能够赋予非常高的防锈功能,而不会给被加工物的尺寸精度带来影响。

    滚磨方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104669097B

    公开(公告)日:2019-11-29

    申请号:CN201410687166.5

    申请日:2014-11-25

    Abstract: 本发明提供一种滚磨方法。将含有被加工物以及研磨介质的块体装入滚筒槽而进行滚磨。通过将上述研磨介质形成为含有树脂的结构,从而在研磨被加工物的同时,使研磨介质所含有的树脂成分附着于被加工物的表面,而形成极其薄的树脂的皮膜。通过该滚磨方法,能够赋予非常高的防锈功能,而不会给被加工物的尺寸精度带来影响。

    干式滚筒研磨法以及介质的制造方法

    公开(公告)号:CN106029298A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201580010935.0

    申请日:2015-02-17

    CPC classification number: B24B31/14 B24B31/02

    Abstract: 本发明提供干式滚筒研磨法以及介质的制造方法。在第一工序中,通过在研磨用介质(40)的表面涂敷润滑性赋予材料(44),来形成非湿润的涂敷部(44C),对介质(40)的表面赋予润滑性。在第二工序中,使介质(40)与被加工物(W)在滚筒槽(12)内混合。在第三工序中,通过使介质(40)与被加工物(W)在滚筒槽(12)内流动来对被加工物(W)进行研磨。

    流动滚筒抛光装置及抛光方法

    公开(公告)号:CN101163569B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200580049461.7

    申请日:2005-02-15

    CPC classification number: B24B31/108

    Abstract: 一流动滚筒抛光装置,包括一筒状固定槽(1)和一设置于该固定槽(1)底部的依靠一滑动间隙(3)水平旋转的转台(2)。工件和介质放置于该固定槽(1)中,该转台(2)水平旋转。随后该工件和该介质旋转流动,形成一质量(M),该工件被抛光。一固定或可旋转的内筒(4)同轴设置于该转台(2)的旋转中心,由此,该质量(M)的外表面与该固定槽(1)的内表面接触,而该质量(M)的内表面与该内筒(4)的外表面接触,该质量(M)中的该工件被抛光。

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