公开(公告)号：CN1239576C

公开(公告)日：2006-02-01

申请号：CN01130395.6

申请日：2001-11-22

Applicant: 拜尔公司

Inventor： S·基尔希梅耶 ,  K·武索 ,  F·约纳斯 ,  A·埃尔施纳

IPC: C08G75/00 ,  C09D181/00

CPC classification number: H01B1/127 ,  C08G61/126 ,  H01G11/48 ,  H01G11/56 ,  Y02E60/13

Abstract: 如果在无水或低水含量溶剂中进行反应并且在反应过程中加入相转移催化剂，那么可以制备出可溶于或可分散于无水或低水含量溶剂中的聚噻吩。

公开(公告)号：CN1420917A

公开(公告)日：2003-05-28

申请号：CN01807432.4

申请日：2001-03-19

Applicant: 拜尔公司

Inventor： K·沃格特 ,  D·潘特克 ,  L·普佩 ,  S·基尔希梅耶

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 采用包含SiO2的浆状物作为二氧化硅层平面化用的抛光剂。已发现，该浆状物在SiO2层抛光期间若所用硅溶胶具有双峰粒度分布则具有较高磨蚀速率。

公开(公告)号：CN1240797C

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：CN01807432.4

申请日：2001-03-19

Applicant: 拜尔公司

Inventor： K·沃格特 ,  D·潘特克 ,  L·普佩 ,  S·基尔希梅耶

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 采用包含SiO2的浆状物作为二氧化硅层平面化用的抛光剂。已发现，该浆状物在SiO2层抛光期间若所用硅溶胶具有双峰粒度分布则具有较高磨蚀速率。

公开(公告)号：CN1354192A

公开(公告)日：2002-06-19

申请号：CN01130395.6

申请日：2001-11-22

Applicant: 拜尔公司

Inventor： S·基尔希梅耶 ,  K·武索 ,  F·约纳斯 ,  A·埃尔施纳

IPC: C08G75/00 ,  C09D181/00

CPC classification number: H01B1/127 ,  C08G61/126 ,  H01G11/48 ,  H01G11/56 ,  Y02E60/13

Abstract: 如果在无水或低水含量溶剂中进行反应并且在反应过程中加入相转移催化剂,那么可以制备出可溶于或可分散于无水或低水含量溶剂中的聚噻吩。