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发明公开
一种氮化铬-氮化铜复合薄膜的制备方法及其应用审中-实审

公开(公告)号：CN119553239A

公开(公告)日：2025-03-04

申请号：CN202411858235.4

申请日：2024-12-17

Applicant: 扬州大学

Inventor： 陈海杰 , 张子豪 , 张超 , 张晶晶

IPC: C23C14/35 , C23C14/06 , C23C14/16

Abstract: 本发明公开了一种氮化铬‑氮化铜复合薄膜的制备方法及其应用，包括，利用磁控溅射对纯度为99.9%的铬靶材进行溅射，获得纯铬过度层；将纯度为99.9%的铜靶材在纯铬过度层上反应溅射，获得氮化铜层；对纯度为99.9%的铬靶材进行反应溅射，获得氮化铬层；交替溅射氮化铜层、氮化铬层，制得氮化铬‑氮化铜复合薄膜。本发明解决了单一氮化铬薄在固‑液复合润滑体系中磨损率反常增大及发生黏着磨损导致薄膜剥离的问题。

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