柔性显示面板及其制备方法、柔性显示装置

    公开(公告)号:CN117750834A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311485479.8

    申请日:2023-11-08

    摘要: 本申请提供一种柔性显示面板及其制备方法、柔性显示装置。一种柔性显示面板包括驱动基板;像素界定层设置于驱动基板的一侧,像素界定层凸出于驱动基板以形成第一区域;发光组件至少部分设置于第一区域内;发光组件包括在驱动基板上依次层叠设置的阳极、发光层以及阴极;阴极覆盖像素界定层和发光层;封装层设置于阴极远离驱动基板的一侧;辅助层设置于封装层远离驱动基板的一侧,辅助层在驱动基板上的正投影至少覆盖发光组件在驱动基板上的正投影;辅助层用于在拉伸状态下显色以补偿色域。该柔性显示面板通过在封装层远离驱动基板的一侧设置辅助层,使得辅助层在拉伸状态下显色以补偿色域,改善拉伸后的显示效果。

    显示面板及显示装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117693236A

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202311395938.3

    申请日:2023-10-25

    摘要: 本申请公开了一种显示面板及显示装置,显示面板包括:驱动基板、和围挡结构;围挡结构具有内凹的多个呈阵列排布的像素容纳槽;像素容纳槽内分别容纳第一子像素、第二子像素和第三子像素;在第一方向上:子像素的有机发光层均位于像素容纳槽的底部,但未从像素容纳槽的底部延伸至像素容纳槽的侧壁;在第二方向上:第三子像素的有机发光层位于像素容纳槽的底部,并从像素容纳槽的底部延伸至像素容纳槽的侧壁和顶部;第一子像素和第二子像素的有机发光层均位于像素容纳槽的底部,但未从像素容纳槽的底部延伸至像素容纳槽的侧壁;其中,第一方向与第二方向不同。本申请通过增大第三子像素的有机发光层的发光面积,从而延长第三子像素的寿命。

    像素结构及显示面板
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN118426226B

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410874594.2

    申请日:2024-07-02

    摘要: 本申请提供的一种像素结构及显示面板,像素结构包括多个像素单元、多行双栅极走线及多列数据线,多个像素单元包括多个透明像素电极、多个TFT单元、多条第一电连接走线及多条第二电连接走线,每个TFT单元电连接双栅极走线中的一条栅极线、一个数据线及一个像素单元,第一电连接走线连接于第一TFT单元与第一透明像素电极之间;第二电连接走线连接于第二TFT单元与第二透明像素电极之间,第一电连接走线的长度大于第二电连接走线的长度,第一电连接走线的电阻率小于第二电连接走线的电阻率,使第一电连接走线的电阻与第二电连接走线的电阻之差为预设电阻,改善因第一电连接走线与第二电连接走线的长度不同而带来亮暗纹问题。

    像素结构及显示面板
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118426226A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410874594.2

    申请日:2024-07-02

    摘要: 本申请提供的一种像素结构及显示面板,像素结构包括多个像素单元、多行双栅极走线及多列数据线,多个像素单元包括多个透明像素电极、多个TFT单元、多条第一电连接走线及多条第二电连接走线,每个TFT单元电连接双栅极走线中的一条栅极线、一个数据线及一个像素单元,第一电连接走线连接于第一TFT单元与第一透明像素电极之间;第二电连接走线连接于第二TFT单元与第二透明像素电极之间,第一电连接走线的长度大于第二电连接走线的长度,第一电连接走线的电阻率大于第二电连接走线的电阻率,使第一电连接走线的电阻与第二电连接走线的电阻之差为预设电阻,改善因第一电连接走线与第二电连接走线的长度不同而带来亮暗纹问题。

    显示面板和显示装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117642027A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311689719.6

    申请日:2023-12-08

    IPC分类号: H10K59/80 H10K59/12

    摘要: 本申请公开了一种显示面板和显示装置,显示面板包括衬底、发光单元层、封装阻挡坝和封装层,所述发光单元层设置在所述衬底上,所述封装阻挡坝环绕所述发光单元层设置,且位于所述非显示区;所述封装层由所述显示区向所述非显示区延伸,至少覆盖所述发光单元层和所述封装阻挡坝;其中,所述封装阻挡坝包括依次层叠设置的第一膜层、第二膜层和第三膜层,所述第一膜层上具有第一凹槽,所述第一凹槽设置在所述第一膜层背离所述衬底的一侧;所述第二膜层具有第二凹槽,所述第三膜层具有第三凹槽,在所述衬底的正投影上,所述第三凹槽、所述第二凹槽与所述第一凹槽重叠。通过设置多层膜层的封装阻挡坝,来提升封装边缘位置的封装效果。

    一种显示面板及其制作方法、显示装置

    公开(公告)号:CN117560960A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202311440292.6

    申请日:2023-10-31

    摘要: 本申请公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置,该显示面板包括:基板;多个子像素,设置于基板上;像素限定层,设置于基板上,像素限定层用于限定多个子像素的位置;隔离柱,设置于像素限定层上,隔离结构用于隔离多个子像素,隔离柱包括依次层叠设置的第一绝缘层、导电层和第二绝缘层,相邻两个子像素的阴极层通过导电层连接;阴极辅助层,设置于第二绝缘层上,阴极辅助层通过第二绝缘层上的过孔连接导电层。通过上述方式,能够降低阴极层上的电阻,从而降低了电压降,进而改善显示面板的画面品质。

    显示面板及显示装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN117693236B

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202311395938.3

    申请日:2023-10-25

    摘要: 本申请公开了一种显示面板及显示装置,显示面板包括:驱动基板、和围挡结构;围挡结构具有内凹的多个呈阵列排布的像素容纳槽;像素容纳槽内分别容纳第一子像素、第二子像素和第三子像素;在第一方向上:子像素的有机发光层均位于像素容纳槽的底部,但未从像素容纳槽的底部延伸至像素容纳槽的侧壁;在第二方向上:第三子像素的有机发光层位于像素容纳槽的底部,并从像素容纳槽的底部延伸至像素容纳槽的侧壁和顶部;第一子像素和第二子像素的有机发光层均位于像素容纳槽的底部,但未从像素容纳槽的底部延伸至像素容纳槽的侧壁;其中,第一方向与第二方向不同。本申请通过增大第三子像素的有机发光层的发光面积,从而延长第三子像素的寿命。

    显示面板的制备方法、显示面板以及显示装置

    公开(公告)号:CN118175874A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202410223740.5

    申请日:2024-02-28

    IPC分类号: H10K59/12 H10K59/80

    摘要: 本申请公开了一种显示面板的制备方法、显示面板以及显示装置,涉及显示技术领域,所述显示面板的边缘阻挡结构包括阻挡底座和阻挡柱,所述阻挡底座设置在所述衬底上,所述阻挡柱设置在所述阻挡底座远离所述衬底的一侧,所述阻挡底座在沿所述显示区至所述非显示区的方向上的横截面呈台阶状结构,且所述阻挡底座与所述像素阻挡结构的至少部分膜层同层形成;所述阻挡底座采用无机材料制成,所述阻挡柱采用有机材料制成;本申请通过以上设计,提高显示面板的边缘封装效果。

    显示面板、显示面板的制备方法以及显示装置

    公开(公告)号:CN117979734A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410068785.X

    申请日:2024-01-17

    摘要: 本申请公开了一种显示面板、显示面板的制备方法以及显示装置,涉及显示技术领域,包括衬底、像素限定层、多个子像素、多个悬垂结构和封装层,所述像素限定层设置在所述衬底上,所述像素限定层上具有多个像素开口,多个所述子像素一一对应设置在所述像素开口内,所述悬垂结构设置在所述像素限定层上,且围绕所述像素开口,所述封装层覆盖在多个所述悬垂结构与多个所述子像素上方,所述封装层上设置有凹槽结构,所述凹槽结构在所述衬底上的正投影与至少部分所述悬垂结构在所述衬底上的正投影重叠;其中,所述显示面板还包括吸水结构层,所述吸水结构层设置在所述凹槽结构内;本申请通过以上设计,延长水汽侵入路径,且提高封装效果。

    显示面板及显示装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117812940A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311853233.1

    申请日:2023-12-28

    摘要: 本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及显示装置。子像素设于通过像素定义层形成的像素容纳区域中,在驱动基板的驱动下发光,触控电极是显示面板用于接收触控信息的主要结构,触控电极接收到的触控信息通过引出线传输至外部的集成电路单元中的。引出线复用为金属层,引出线的延伸方向与屋檐结构的延伸方向相同,引出线在驱动基板上的正投影位于屋檐结构在驱动基板上的正投影内,这样设计能够使引出线与屋檐结构两者之间的形状和位置相互对应,在掩膜工艺中降低掩膜设计的难度和提升了像素开口。