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公开(公告)号：CN112684392A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN201910997440.1
申请日：2019-10-19
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/385 , G01R33/421
Abstract: 本发明公开了一种非平面梯度线圈的设计方法，本发明设计的非平面梯度线圈是两个圆面弯绕一定角度后形成的两个弧形面组成，首先在球体上划分目标点，采用球谐函数分别计算出梯度线圈在目标点上的磁场值，然后读取三角网格的各个顶点和面，优化顶点和面的排布顺序，根据边界元法设置导线尺寸，计算源点区通电导线对场点的贡献值，约束非平面梯度线圈功耗和储能最小，求出非平面梯度线圈功耗和储能最小，求出非平面梯度线圈上电流密度分布，最后通过流函数法得到非平面梯度线圈的绕线形状。本发明采用上述的非平面梯度线圈的设计方法，可以增加梯度线圈和极头之间的间距，降低梯度线圈在极头上产生的涡流，提高开放式MRI系统的图像质量。
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公开(公告)号：CN110568390A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910975547.6
申请日：2019-10-14
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/387 , G06F17/50
Abstract: 本发明公开了一种双平面匀场线圈的设计方法，首先导入双平面匀场线圈的源点网格，排序网格顶点和三角面，然后采用球谐函数分别计算出2阶匀场线圈在目标点上的磁场值，采用MATLAB软件读取三角网格的各个顶点和面，优化顶点和面的排布顺序，根据边界元法设置导线尺寸，计算源点区域通电导线对场点的贡献值，约束双平面匀场线圈的储能和功耗最小，求出上平面匀场线圈上电流密度分布，通过流函数法得到双平面匀场线圈的绕线形状。本发明采用上述结构的双平面匀场线圈的设计方法，能消除2阶及以上谐波磁场，从而提高主磁场的均匀性，提高开放式MRI系统的图像质量。
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公开(公告)号：CN110367985B
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN201910649552.8
申请日：2019-07-18
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种低场磁共振线扫弥散成像去除黑色条纹的方法。具体涉及磁共振成像领域，通过如下方法实现线扫弥散成像去除黑色条纹：LSDI序列参数按要求设置，其中扫描重复次数为3次；预扫背景图像（获取阈值门限），将射频置零来扫描获取背景的噪声的图像，取图像噪声的均值作为阈值门限；LSDI序列正常扫描；通过将扫描完成的3次相同层的原始数据利用FFT完成图像重建；将图像进行后处理，将得到的差值图像与阈值门限相比较进而对比得出最终图像的信号值；将最终得出的图像信号值进行显示。本发明采用上述方法能够使得最终显现的图像中黑色条纹基本消失，避免LSDI技术进行颅脑的DWI时产生的随机黑色条纹对图像质量的影响。
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公开(公告)号：CN110456293A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201910658436.2
申请日：2019-07-22
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/385 , G01R33/421
Abstract: 本发明公开了一种自屏蔽梯度线圈的设计方法，首先将根据成像区域目标点磁场值，通过边界元法和流函数法求出梯度线圈主线圈最大尺寸及主线圈在成像区域和屏蔽区域目标点的磁场值，根据主线圈在成像区域和屏蔽区域的磁场值来设定屏蔽线圈的目标点，从而控制屏蔽线圈在成像区域的磁场值，以实现对自屏蔽梯度线圈的功耗的控制。本发明采用上述结构的自屏蔽梯度线圈的设计方法，能有效提高自屏蔽梯度线圈的效率，降低自屏蔽梯度线圈的功耗。
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公开(公告)号：CN109507621A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201910050943.8
申请日：2019-01-21
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/42
Abstract: 本发明公开了一种MRI用屏蔽布式屏蔽房，属于核磁共振成像（MRI）领域，包括用于屏蔽干扰的屏蔽布、支撑屏蔽布的屏蔽房框架、位于屏蔽房正面的观察窗、位于屏蔽房左右两面对称设置的波导窗和位于屏蔽房后面的传导板。所述屏蔽布为四层结构，外层为外层保护布，中间两层为屏蔽布，内层为内层保护布。所述支撑屏蔽布的框架材料为非导磁性材料，所述屏蔽房框架提供屏蔽布成型的结构，所述观察窗位于正对操作台位置，所述传导板用于连接屏蔽房内外线路，所述波导窗用于屏蔽房内外空气流通。本发明具有柔性好、质量轻、安全可靠，便于安装携带和拆卸等特点，适用于固定式和移动式MRI设备工作环境，可有效的抑制外界电子设备的干扰和保护屏蔽布内MRI设备的正常工作。
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公开(公告)号：CN110456293B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201910658436.2
申请日：2019-07-22
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/385 , G01R33/421
Abstract: 本发明公开了一种自屏蔽梯度线圈的设计方法，首先将根据成像区域目标点磁场值，通过边界元法和流函数法求出梯度线圈主线圈最大尺寸及主线圈在成像区域和屏蔽区域目标点的磁场值，根据主线圈在成像区域和屏蔽区域的磁场值来设定屏蔽线圈的目标点，从而控制屏蔽线圈在成像区域的磁场值，以实现对自屏蔽梯度线圈的功耗的控制。本发明采用上述结构的自屏蔽梯度线圈的设计方法，能有效提高自屏蔽梯度线圈的效率，降低自屏蔽梯度线圈的功耗。
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公开(公告)号：CN110367985A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201910649552.8
申请日：2019-07-18
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种低场磁共振线扫弥散成像去除黑色条纹的方法。具体涉及磁共振成像领域，通过如下方法实现线扫弥散成像去除黑色条纹：LSDI序列参数按要求设置，其中扫描重复次数为3次；预扫背景图像（获取阈值门限），将射频置零来扫描获取背景的噪声的图像，取图像噪声的均值作为阈值门限；LSDI序列正常扫描；通过将扫描完成的3次相同层的原始数据利用FFT完成图像重建；将图像进行后处理，将得到的差值图像与阈值门限相比较进而对比得出最终图像的信号值；将最终得出的图像信号值进行显示。本发明采用上述方法能够使得最终显现的图像中黑色条纹基本消失，避免LSDI技术进行颅脑的DWI时产生的随机黑色条纹对图像质量的影响。
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公开(公告)号：CN210412049U
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201921094130.0
申请日：2019-07-13
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: B21D7/06
Abstract: 本实用新型公开了一种矩形铜管折弯成型工装，属于加工制造领域。为解决现有矩形铜管折弯设备成本高、体型大的问题，设计本实用新型包括凸模和凹模，所述凹模包括工装支撑底板和工装盖板，工装支撑底板上部左右对称设有凹模滑动块和凹模固定块，凹模滑动块中部设有两道滑槽，滑槽内设有限位组件，工装支撑底板左侧设有位置调整旋钮，用于调整凹模滑动块的位置，工装盖板通过盖板固定螺钉紧固于工装支撑底板。本实用新型采用所述矩形铜管折弯工装，成本低廉，操作简单，使用方便，且能将矩形铜管折弯成规定尺寸U型弯。
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公开(公告)号：CN209777573U
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201920390117.3
申请日：2019-03-26
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: B65G47/248
Abstract: 本实用新型公开了一种大型线圈翻转机，属于加工制造领域。为解决现有翻转机成本高、操作复杂、存在安全隐患且不适用于大型线圈翻转的不足，设计本实用新型包括翻转机框架、设于翻转机框架上部的传动组件、设于翻转机框架右侧的盘式翻转工装和电气控制系统。所述传动组件从左至右依次排布为刹车电机和摆线减速器、齿轮减速箱、联轴器、输出轴、支撑轴和机械限位。所述电气控制系统包括设于盘式翻转工装左端面的感应块和设于感应支架上的传感器。本实用新型以分轴式框架作为支撑，通过刹车电机配备减速器与增矩齿轮作为动力输出，盘式翻转工装固定线圈，实现大型线圈的稳定翻转作业。
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公开(公告)号：CN209777510U
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201920374172.3
申请日：2019-03-23
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: B65G35/00
Abstract: 本实用新型公开了一种重型设备运输工装，包括支撑结构和设于支撑结构下方的运动结构，其中所述支撑结构由底盘和铺设于底盘下方的支撑梁构成，所述运动结构由设于底盘下前方的转向坦克轮和设于底盘下后方的直行坦克轮构成。本实用新型提供一种重型设备运输工装，能够安全、高效的运输大型设备，且配合跨顶作业能快捷的将设备与工装分离。
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