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公开(公告)号：CN104766351A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201510197277.2
申请日：2015-04-24
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种MRI超范围编码成像方法，包括以下步骤：A、获取若干个图像；B、以第一图像作为中心图像进行编码成像，形成目标图像，并依此目标图像为目标值，对剩余图像进行依次编码；C、依次选取其它图像为中心图像，进行上述步骤B的编码过程；D、对编码矩阵进行融合；E、进行循环编码比较，最终得到最终图像。本发明能够解决现有技术的不足，降低了伪影的影响。
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公开(公告)号：CN112684392A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN201910997440.1
申请日：2019-10-19
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/385 , G01R33/421
Abstract: 本发明公开了一种非平面梯度线圈的设计方法，本发明设计的非平面梯度线圈是两个圆面弯绕一定角度后形成的两个弧形面组成，首先在球体上划分目标点，采用球谐函数分别计算出梯度线圈在目标点上的磁场值，然后读取三角网格的各个顶点和面，优化顶点和面的排布顺序，根据边界元法设置导线尺寸，计算源点区通电导线对场点的贡献值，约束非平面梯度线圈功耗和储能最小，求出非平面梯度线圈功耗和储能最小，求出非平面梯度线圈上电流密度分布，最后通过流函数法得到非平面梯度线圈的绕线形状。本发明采用上述的非平面梯度线圈的设计方法，可以增加梯度线圈和极头之间的间距，降低梯度线圈在极头上产生的涡流，提高开放式MRI系统的图像质量。
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公开(公告)号：CN110568390A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910975547.6
申请日：2019-10-14
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/387 , G06F17/50
Abstract: 本发明公开了一种双平面匀场线圈的设计方法，首先导入双平面匀场线圈的源点网格，排序网格顶点和三角面，然后采用球谐函数分别计算出2阶匀场线圈在目标点上的磁场值，采用MATLAB软件读取三角网格的各个顶点和面，优化顶点和面的排布顺序，根据边界元法设置导线尺寸，计算源点区域通电导线对场点的贡献值，约束双平面匀场线圈的储能和功耗最小，求出上平面匀场线圈上电流密度分布，通过流函数法得到双平面匀场线圈的绕线形状。本发明采用上述结构的双平面匀场线圈的设计方法，能消除2阶及以上谐波磁场，从而提高主磁场的均匀性，提高开放式MRI系统的图像质量。
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公开(公告)号：CN110367985B
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN201910649552.8
申请日：2019-07-18
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种低场磁共振线扫弥散成像去除黑色条纹的方法。具体涉及磁共振成像领域，通过如下方法实现线扫弥散成像去除黑色条纹：LSDI序列参数按要求设置，其中扫描重复次数为3次；预扫背景图像（获取阈值门限），将射频置零来扫描获取背景的噪声的图像，取图像噪声的均值作为阈值门限；LSDI序列正常扫描；通过将扫描完成的3次相同层的原始数据利用FFT完成图像重建；将图像进行后处理，将得到的差值图像与阈值门限相比较进而对比得出最终图像的信号值；将最终得出的图像信号值进行显示。本发明采用上述方法能够使得最终显现的图像中黑色条纹基本消失，避免LSDI技术进行颅脑的DWI时产生的随机黑色条纹对图像质量的影响。
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公开(公告)号：CN110456293A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201910658436.2
申请日：2019-07-22
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/385 , G01R33/421
Abstract: 本发明公开了一种自屏蔽梯度线圈的设计方法，首先将根据成像区域目标点磁场值，通过边界元法和流函数法求出梯度线圈主线圈最大尺寸及主线圈在成像区域和屏蔽区域目标点的磁场值，根据主线圈在成像区域和屏蔽区域的磁场值来设定屏蔽线圈的目标点，从而控制屏蔽线圈在成像区域的磁场值，以实现对自屏蔽梯度线圈的功耗的控制。本发明采用上述结构的自屏蔽梯度线圈的设计方法，能有效提高自屏蔽梯度线圈的效率，降低自屏蔽梯度线圈的功耗。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109507621A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201910050943.8
申请日：2019-01-21
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/42
Abstract: 本发明公开了一种MRI用屏蔽布式屏蔽房，属于核磁共振成像（MRI）领域，包括用于屏蔽干扰的屏蔽布、支撑屏蔽布的屏蔽房框架、位于屏蔽房正面的观察窗、位于屏蔽房左右两面对称设置的波导窗和位于屏蔽房后面的传导板。所述屏蔽布为四层结构，外层为外层保护布，中间两层为屏蔽布，内层为内层保护布。所述支撑屏蔽布的框架材料为非导磁性材料，所述屏蔽房框架提供屏蔽布成型的结构，所述观察窗位于正对操作台位置，所述传导板用于连接屏蔽房内外线路，所述波导窗用于屏蔽房内外空气流通。本发明具有柔性好、质量轻、安全可靠，便于安装携带和拆卸等特点，适用于固定式和移动式MRI设备工作环境，可有效的抑制外界电子设备的干扰和保护屏蔽布内MRI设备的正常工作。
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公开(公告)号：CN104899841B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201510325957.8
申请日：2015-06-15
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G06T5/00
Abstract: 本发明公开了一种核磁共振图像的生成计算方法，包括以下步骤：A、对检测部位进行扫描，对核磁共振信号进行模数转换；B、将数字信号填充入K空间；C、使用傅里叶变换分解出不同频率、相位、强度的信号，对核磁共振图像进行重构；D、对步骤C中重构出的核磁共振图像进行分块；E、选取特定区域进行高斯滤波处理；F、将经过滤波处理的图像区域与其余图像区域进行融合，重新形成核磁共振图像；G、对步骤F中形成的核磁共振图像分成若干个图像层，将各个图像层进行二次融合，形成新的核磁共振图像。本发明能够解决现有技术的不足，在不增加图像处理时间的前提下提高了图像的清晰度。
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公开(公告)号：CN104766351B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201510197277.2
申请日：2015-04-24
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种MRI超范围编码成像方法，包括以下步骤：A、获取若干个图像；B、以第一图像作为中心图像进行编码成像，形成目标图像，并依此目标图像为目标值，对剩余图像进行依次编码；C、依次选取其它图像为中心图像，进行上述步骤B的编码过程；D、对编码矩阵进行融合；E、进行循环编码比较，最终得到最终图像。本发明能够解决现有技术的不足，降低了伪影的影响。
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公开(公告)号：CN110456293B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201910658436.2
申请日：2019-07-22
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
IPC: G01R33/385 , G01R33/421
Abstract: 本发明公开了一种自屏蔽梯度线圈的设计方法，首先将根据成像区域目标点磁场值，通过边界元法和流函数法求出梯度线圈主线圈最大尺寸及主线圈在成像区域和屏蔽区域目标点的磁场值，根据主线圈在成像区域和屏蔽区域的磁场值来设定屏蔽线圈的目标点，从而控制屏蔽线圈在成像区域的磁场值，以实现对自屏蔽梯度线圈的功耗的控制。本发明采用上述结构的自屏蔽梯度线圈的设计方法，能有效提高自屏蔽梯度线圈的效率，降低自屏蔽梯度线圈的功耗。
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公开(公告)号：CN110367985A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201910649552.8
申请日：2019-07-18
Applicant: 惠仁望都医疗设备科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种低场磁共振线扫弥散成像去除黑色条纹的方法。具体涉及磁共振成像领域，通过如下方法实现线扫弥散成像去除黑色条纹：LSDI序列参数按要求设置，其中扫描重复次数为3次；预扫背景图像（获取阈值门限），将射频置零来扫描获取背景的噪声的图像，取图像噪声的均值作为阈值门限；LSDI序列正常扫描；通过将扫描完成的3次相同层的原始数据利用FFT完成图像重建；将图像进行后处理，将得到的差值图像与阈值门限相比较进而对比得出最终图像的信号值；将最终得出的图像信号值进行显示。本发明采用上述方法能够使得最终显现的图像中黑色条纹基本消失，避免LSDI技术进行颅脑的DWI时产生的随机黑色条纹对图像质量的影响。
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