公开(公告)号：CN117991581A

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202310026042.1

申请日：2023-01-09

Applicant: 思而施技术株式会社

Inventor： 金东建 ,  姜同植 ,  孔钟奎 ,  李钟旻

IPC: G03F1/40

Abstract: 一种用于平板显示器(FPD)的空白掩膜，其包括形成于透明衬底上的金属薄膜。金属薄膜包括用于阻挡曝光光线的遮光层、用于反射一些曝光光线的反射层、以及用于防止静电荷在金属薄膜中积聚的抗静电层。抗静电层包含30原子％至60原子％的铬(Cr)、20原子％至60原子％的氮(N)、10原子％至40原子％的氧(O)和0原子％至10原子％的碳(C)，并且抗静电层的薄层电阻高于或等于100Ω/□。抗静电层防止电荷在金属薄膜中积聚，并且防止由于静电放电(ESD)而导致光掩膜的图案损伤。

公开(公告)号：CN113009774A

公开(公告)日：2021-06-22

申请号：CN202011485574.4

申请日：2020-12-16

Applicant: 思而施技术株式会社

Inventor： 金东建 ,  孔钟奎

IPC: G03F1/32

Abstract: 本申请公开了一种用于平板显示器(FPD)中的相移空白掩膜，该相移空白掩膜包括位于透明衬底上的相移膜。相移膜包括控制曝光光线的透射率的透射衰减层和控制曝光光线的相移量的相移层。透射衰减层的组成比为50原子％至100原子％的铬(Cr)、0原子％至50原子％的氮(N)和0原子％至50原子％的碳(C)。相移层的组成比为10原子％至60原子％的铬(Cr)、0原子％至60原子％的氮(N)、0原子％至60原子％的氧(O)和0原子％至40原子％的碳(C)。对于365nm(i线)、405nm(h线)和436nm(g线)的复合波长的曝光光线，使各波长的透射率差异最小化至4％以下或2％以下。