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公开(公告)号：CN116899644B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202311169188.8
申请日：2023-09-12
Applicant: 微纳动力(北京)科技有限责任公司
IPC: B01L3/00
Abstract: 本发明提供了一种光电微流控装置及系统，属于光电镊技术领域，光电微流控装置包括：下基板，其表面上镀有光电薄膜；微流体阵列组件，位于下基板上，微流体阵列组件包括至少一组微流体阵列，每组微流体阵列并列设置，至少一组微流体阵列具有至少一个微流体腔；上基板，其表面上镀有导电薄膜，且具有导电薄膜的一面与微流体阵列组件连接。本发明实施例可将大批量的微目标利用光电镊技术分别导入单独的微流体阵列组件中的微流体腔内观察分析研究，以及一次实验可以研究更多的微目标颗粒，提高了对微目标的研究效率，降低了分析实验成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116920975B
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311195462.9
申请日：2023-09-18
Applicant: 微纳动力(北京)科技有限责任公司
IPC: B01L3/00
Abstract: 本发明涉及生物芯片领域，更具体的说是一种阳极键合的光电镊芯片，包括流道顶部ITO层、玻璃透光层、流道层、光电薄膜层和下极板层；玻璃层、流道层、光电薄膜层和下极板层组成包封液体的密封立方体结构；优选的，所述流道层设置在玻璃透光层内，流道层是通过在玻璃透光层上刻蚀加工制成；优选的，所述光电薄膜层的材质是光电薄膜材料；优选的，所述光电薄膜层可以是一种NPN型光电晶体管；本发明的有益效果为通过刻蚀技术制造的光电镊流道图案，并且实现了微流道与上极板的集成，使键合步骤仅需要一步，减少了传统光电镊芯片需要两步键合的缺点。
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公开(公告)号：CN116920975A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202311195462.9
申请日：2023-09-18
Applicant: 微纳动力(北京)科技有限责任公司
IPC: B01L3/00
Abstract: 本发明涉及生物芯片领域，更具体的说是一种阳极键合的光电镊芯片，包括流道顶部ITO层、玻璃透光层、流道层、光电薄膜层和下极板层；玻璃层、流道层、光电薄膜层和下极板层组成包封液体的密封立方体结构；优选的，所述流道层设置在玻璃透光层内，流道层是通过在玻璃透光层上刻蚀加工制成；优选的，所述光电薄膜层的材质是光电薄膜材料；优选的，所述光电薄膜层可以是一种NPN型光电晶体管；本发明的有益效果为通过刻蚀技术制造的光电镊流道图案，并且实现了微流道与上极板的集成，使键合步骤仅需要一步，减少了传统光电镊芯片需要两步键合的缺点。
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公开(公告)号：CN116899644A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202311169188.8
申请日：2023-09-12
Applicant: 微纳动力(北京)科技有限责任公司
IPC: B01L3/00
Abstract: 本发明提供了一种光电微流控装置及系统，属于光电镊技术领域，光电微流控装置包括：下基板，其表面上镀有光电薄膜；微流体阵列组件，位于下基板上，微流体阵列组件包括至少一组微流体阵列，每组微流体阵列并列设置，至少一组微流体阵列具有至少一个微流体腔；上基板，其表面上镀有导电薄膜，且具有导电薄膜的一面与微流体阵列组件连接。本发明实施例可将大批量的微目标利用光电镊技术分别导入单独的微流体阵列组件中的微流体腔内观察分析研究，以及一次实验可以研究更多的微目标颗粒，提高了对微目标的研究效率，降低了分析实验成本。
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公开(公告)号：CN117067466B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311319448.5
申请日：2023-10-12
Applicant: 微纳动力(北京)科技有限责任公司
Abstract: 本发明提供了一种光电微流控装置制作方法，属于光电镊设备技术领域，方法包括：提供阳膜结构，其中，阳膜结构上具有所需通孔对应的图案结构；在阳膜结构上浇筑预聚物，预聚物漫过通孔；在预聚物上压制压制件，压制件上与通孔相对处设置有抑制剂，抑制剂用于抑制通孔处的预聚物固化；预聚物固化后，去除压制件以及阳膜结构；键合基底材料，形成光电微流控装置。本发明不受限于阳模结构、尺寸等因素限制，可完美匹配光电微流控装置或其它任何一种需要具有通孔结构的微流控装置，尤其是在应对高度阵列化的通孔结构中，比其它方法具有更简便操作和更高产品质量等优势。
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公开(公告)号：CN117067466A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202311319448.5
申请日：2023-10-12
Applicant: 微纳动力(北京)科技有限责任公司
Abstract: 本发明提供了一种光电微流控装置制作方法及装置，属于光电镊设备技术领域，方法包括：提供阳膜结构，其中，阳膜结构上具有所需通孔对应的图案结构；在阳膜结构上浇筑预聚物，预聚物漫过通孔；在预聚物上压制压制件，压制件上与通孔相对处设置有抑制剂，抑制剂用于抑制通孔处的预聚物固化；预聚物固化后，去除压制件以及阳膜结构；键合基底材料，形成光电微流控装置。本发明不受限于阳模结构、尺寸等因素限制，可完美匹配光电微流控装置或其它任何一种需要具有通孔结构的微流控装置，尤其是在应对高度阵列化的通孔结构中，比其它方法具有更简便操作和更高产品质量等优势。
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