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公开(公告)号：CN101172859A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200710143237.5
申请日：2007-08-07
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 埃尔米拉·赖亚博瓦 , 理查德·莱温顿 , 马德哈唯·R·钱德拉养德 , 阿米泰布·萨布哈维尔 , 达里恩·比文斯 , 珍妮弗·孙 , 杰·袁
CPC分类号： C04B35/505 , C04B2235/663 , C04B2235/664 , C04B2235/72 , C04B2235/81
摘要： 在此提供一种制造氧化钇部件的方法。在一个实施方式中，该方法包括烧结氧化钇样本，机械加工所烧结的样本以形成部件，以及通过以预定的加热速度加热部件而退火部件，在恒定退火温度下机械加工部件，以及以预定的冷却速度冷却部件。
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公开(公告)号：CN101174107A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200710143238.X
申请日：2007-08-07
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 艾杰伊·库玛 , 马德哈唯·R·钱德拉养德 , 理查德·莱温顿 , 达里恩·比文斯 , 阿米泰布·萨布哈维尔 , 希巴·J·潘纳伊尔 , 艾伦·希罗什·奥叶
IPC分类号： G03F7/36 , G03F7/26 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32422 , H01J37/3244 , H01J37/32449
摘要： 在此提供一种用于蚀刻光掩模的方法和装置。在一个实施方式中，该装置包含具有适于容纳光掩模的支撑底座的工艺腔室。离子－中性护板设置在底座上方以及偏转板组件设置在离子－中性护板上方。偏转板组件限定工艺气体朝向离子－中性护板的气流方向，同时离子－中性护板用于在用于蚀刻光掩模的等离子体中建立离子和中性物质的所需分布。
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公开(公告)号：CN101174106A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200710138058.2
申请日：2007-08-08
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 艾杰伊·库玛 , 马德哈唯·R·钱德拉养德 , 理查德·莱温顿 , 达里恩·比文斯 , 阿米泰布·萨布哈维尔 , 希巴·J·潘纳伊尔 , 艾伦·希罗什·奥叶
IPC分类号： G03F7/36 , G03F7/26 , H01L21/027 , H01L21/3065
CPC分类号： C23F4/00 , G03F1/80 , H01J37/321 , H01J37/32422
摘要： 在此提供一种用于蚀刻光掩模的方法和装置。该装置包括在衬底支架上方具有护板的工艺腔室。该护板包含具有孔的板，以及该板具有两个区域，这两个区域具有彼此不同的至少一种属性，诸如材料或电势偏压。该方法提供用于蚀刻具有经过护板的离子和中性物质分布的光掩模衬底。
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公开(公告)号：CN201348719Y
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200920001754.3
申请日：2007-10-29
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 理查德·莱温顿 , 迈克尔·N·格林博金 , 吉姆·K·尼古恩 , 达里恩·比文斯 , 马德哈唯·R·钱德拉乔德 , 阿杰伊·库玛
摘要： 本实用新型描述用来蚀刻工件的用于等离子体反应器的升降销。在一个实施例中，升降销包括具有环形横截面的纵向体，该体具有圆形的第一末端和圆形的第二末端；和形成在该第二末端中的凹进区域，该凹进区域适于可分离的连接到布置在等离子体反应室中的升降片，其中该体包括第一直径区域并且该凹进区域包括具有较小直径的通过侧翼分开的至少两个直径区域。
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公开(公告)号：CN201218899Y
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200720181419.7
申请日：2007-10-29
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 理查德·莱温顿 , 迈克尔·N·格林博金 , 吉姆·K·尼古恩 , 达里恩·比文斯 , 马德哈唯·R·钱德拉乔德 , 阿杰伊·库玛
摘要： 本实用新型描述用来蚀刻工件的用于等离子体反应器的升降销。在一个实施例中，升降销包括具有环形横截面的纵向体，该体具有圆形的第一末端和圆形的第二末端；和形成在该第二末端中的凹进区域，该凹进区域适于可分离的连接到布置在等离子体室中的升降片，其中该体包括第一直径区域并且该凹进区域包括具有较小直径的通过侧翼分开的至少两个对角区域。
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