公开(公告)号：CN106558468A

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201610857555.7

申请日：2016-09-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·拉马斯瓦米 ,  L·王 ,  S·莱恩 ,  Y·杨 ,  S·D·耐马尼 ,  P·戈帕尔拉迦

IPC: H01J37/32

Abstract: 公开了一种利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器。一种等离子体源，由等离子体点源的阵列组成，该等离子体源对用户界定的区域在空间上和时间上控制带电粒子和自由基的产生。

公开(公告)号：CN106558468B

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201610857555.7

申请日：2016-09-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·拉马斯瓦米 ,  L·王 ,  S·莱恩 ,  Y·杨 ,  S·D·耐马尼 ,  P·戈帕尔拉迦

IPC: H01J37/32

Abstract: 公开了一种利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器。一种等离子体源，由等离子体点源的阵列组成，该等离子体源对用户界定的区域在空间上和时间上控制带电粒子和自由基的产生。

公开(公告)号：CN207503911U

公开(公告)日：2018-06-15

申请号：CN201721159736.9

申请日：2016-09-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·拉马斯瓦米 ,  L·王 ,  S·莱恩 ,  Y·杨 ,  S·D·耐马尼 ,  P·戈帕尔拉迦

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/3323 ,  H01J2237/334

Abstract: 本实用新型提供了一种等离子体反应器。在一个实施例中，等离子体反应器包含：工艺腔室主体，所述工艺腔室主体具有处理区，所述处理区由圆柱形侧壁、下顶板和底板包围；工件支座，所述工件支座用于在所述处理区域内支撑工件；真空泵，所述真空泵通过所述底板耦接至所述处理区域；气体出口孔的阵列，所述气体出口孔的阵列形成在所述下顶板中；圆柱形腔的阵列，所述圆柱形腔的阵列由电介质圆柱形腔壁包围，每一个圆柱形腔与所述气体出口孔中相应的一个对齐；电源；以及相应的功率施加器，所述相应的功率施加器配置成通过将功率从所述相应的功率施加器经所述电介质圆柱形腔壁而耦合到所述圆柱形腔中以在所述圆柱形腔中的相应的腔中产生等离子体。

公开(公告)号：CN206546813U

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：CN201621084463.1

申请日：2016-09-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·拉马斯瓦米 ,  L·王 ,  S·莱恩 ,  Y·杨 ,  S·D·耐马尼 ,  P·戈帕尔拉迦

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/3323 ,  H01J2237/334

Abstract: 公开了一种利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器。一种等离子体源，由等离子体点源的阵列组成，该等离子体源对用户界定的区域在空间上和时间上控制带电粒子和自由基的产生。